[發明專利]包含輕摻雜漏極結構的版圖結構有效

申請號：	201110435735.3	申請日：	2011-12-22
公開（公告）號：	CN103178094A	公開（公告）日：	2013-06-26
發明（設計）人：	楊杰;李艷;楊兆宇;謝寶強	申請（專利權）人：	無錫華潤上華科技有限公司
主分類號：	H01L29/417	分類號：	H01L29/417
代理公司：	廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224	代理人：	何平
地址：	214028 江蘇省無***	國省代碼：	江蘇;32
權利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關鍵詞：	包含摻雜結構版圖
鉆瓜網技術展會專利詞庫專利權人專利榜在售專利公布日期熱門專利

【權利要求書】：

1.一種包含輕摻雜漏極結構的版圖結構，包括方框狀的第一淺溝槽隔離區，所述淺溝槽隔離區內的有源區，以及所述有源區內的第二淺溝槽隔離區；其特征在于，第一淺溝槽隔離區的方框上于兩側各設有一輕摻雜漏極圖形區域，所述輕摻雜漏極圖形區域與各自一側的框體內緣間距大于0.18微米，所述有源區內設有第二淺溝槽隔離區，所述第二淺溝槽隔離區內無輕摻雜漏極結構。

2.根據權利要求1所述的包含輕摻雜漏極結構的版圖結構，其特征在于，所述第二淺溝槽隔離區為4個相互分離的長方形區域且呈2*2方式排列。

3.根據權利要求1所述的包含輕摻雜漏極結構的版圖結構，其特征在于，所述輕摻雜漏極圖形區域為長條形區域，且設于所述方框的長邊框上。

4.根據權利要求3所述的包含輕摻雜漏極結構的版圖結構，其特征在于，所述有源區為長方形且緊鄰所述第一淺溝槽隔離區。

5.根據權利要求1所述的包含輕摻雜漏極結構的版圖結構，其特征在于，所述包含輕摻雜漏極結構的版圖結構應用于0.16微米柵極長度工藝中。

下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。

免登錄下載普通用戶下載升級VIP會員，免費下載

該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于無錫華潤上華科技有限公司，未經無錫華潤上華科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】

本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110435735.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。