[發明專利]塑件及其制造方法無效
| 申請號: | 201110423698.4 | 申請日: | 2011-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN103158308A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發明(設計)人: | 劉旭;曹達華 | 申請(專利權)人: | 深圳富泰宏精密工業有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/06 | 分類號: | B32B27/06;B32B7/04;C23C14/35;C23C14/20;H05K9/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種塑件及其制造方法。
背景技術
現有技術,通常以銦錫為蒸發料,通過蒸發鍍膜的方式在塑件(如手機殼體)上蒸鍍一白色的、具有良好的透光率及強烈金屬質感的銦錫不導電膜層。如此,使塑件具有電磁屏蔽性能的同時還可呈現出白色的高雅外觀效果。但采用銦錫進行蒸發鍍膜過程中,必須嚴格控制真空室中的氣氛,以避免銦錫被氧化成氧化銦錫而使形成的膜層具有導電性,如此提高了對鍍膜設備的要求。此外,銦的價格較高,提高了銦錫不導電膜層的制備成本。
發明內容
有鑒于此,提供一種可解決上述問題的塑件。
另外,還提供一種所述塑件的制造方法。
一種塑件,包括塑料基體及形成于該塑料基體上的不導電鍍膜層,該不導電鍍膜層為硅鋁復合層,該硅鋁復合層的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標為70至75,a*坐標為0至0.5,b*坐標為0至0.5。
一種塑件的制造方法,包括以下步驟:
提供塑料基體;
采用真空鍍膜的方式,以硅鋁復合靶為靶材,在所述塑料基體上形成一不導電鍍膜層,該不導電鍍膜層為硅鋁復合層,該硅鋁復合層的色度區域于CIE?LAB表色系統的L*坐標為70至75,a*坐標為0至0.5,b*坐標為0至0.5。
所述塑件的制造方法,采用真空鍍膜的方式,以硅鋁復合靶為靶材,在塑料基體上形成不導電鍍膜層,使所述塑件在具有電磁屏蔽性能的同時還可呈現出白色的高雅外觀效果。在形成所述不導電鍍膜層的過程中,即使鍍膜室內混入了少量的氧氣,對所述不導電鍍膜層的導電性、顏色均沒有影響,提高了制備所述不導電鍍膜層的穩定性和重復性。另外,采用所述硅鋁復合靶,降低了生產成本。
附圖說明
圖1是本發明一較佳實施例塑件的剖視圖;
圖2是本發明另一較佳實施例塑件的剖視圖;
圖3是本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
主要元件符號說明
如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。
具體實施方式
請參見圖1,本發明一較佳實施例的塑件10包括一塑料基體11、依次形成于該塑料基體11的底漆層13、不導電鍍膜層15。
所述底漆層13的厚度為8~15μm。用以形成所述底漆層13的漆為UV漆或熱固化漆。所述底漆層13可提高塑料基體11表面的平整度、不導電膜層15與塑料基體11的結合力。
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