[發(fā)明專利]塑件及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110423698.4 | 申請日： | 2011-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN103158308A | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉旭;曹達華 | 申請（專利權）人： | 深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B7/04;C23C14/35;C23C14/20;H05K9/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制造 方法 | ||
1.一種塑件，包括塑料基體，其特征在于：所述塑件還包括形成于該塑料基體上的不導電鍍膜層，該不導電鍍膜層為硅鋁復合層，該硅鋁復合層的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統的L*坐標為70至75，a*坐標為0至0.5，b*坐標為0至0.5。
2.如權利要求1所述的塑件，其特征在于：所述不導電鍍膜層的厚度為20~40nm。
3.如權利要求1或2所述的塑件，其特征在于：所述塑件還包括形成于所述塑料基體與不導電鍍膜層之間的底漆層。
4.如權利要求3所述的塑件，其特征在于：所述底漆層的厚度為8~15μm。
5.一種塑件的制造方法，包括以下步驟：
提供塑料基體；
采用真空鍍膜的方式及使用硅鋁復合靶，在所述塑料基體上形成一不導電鍍膜層，該不導電鍍膜層為硅鋁復合層，該硅鋁復合層的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統的L*坐標為70至75，a*坐標為0至0.5，b*坐標為0至0.5。
6.如權利要求5所述的塑件的制造方法，其特征在于：所述硅鋁復合靶中，硅的質量百分含量為70~80%，鋁的質量百分含量為20~30%。
7.如權利要求5或6所述的塑件的制造方法，其特征在于：形成所述不導電鍍膜層的工藝參數為：采用磁控濺射鍍膜法，設置硅鋁復合靶的功率為6~10kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為160~250sccm，鍍膜溫度為室溫，鍍膜時間為2~6min。
8.如權利要求5所述的塑件的制造方法，其特征在于：所述不導電鍍膜層的厚度為20~40nm。
9.如權利要求5所述的塑件的制造方法，其特征在于：所述塑件的制造方法還包括在形成所述不導電鍍膜層之前在所述塑料基體上形成底漆層的步驟。
10.如權利要求9所述的塑件的制造方法，其特征在于：形成所述底漆層的工藝參數為：形成底漆層的油漆為UV漆或熱固化漆，噴槍壓力為800~1200Pa，噴涂距離為15~25cm。
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