[發(fā)明專利]一種用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液及蝕刻方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110421439.8
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN103160909A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮清;林宏業(yè);連俊蘭;高鄉(xiāng)明;劉青松
• 申請（專利權(quán)）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C25F3/08
• 分類號: C25F3/08
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種蝕刻液及蝕刻方法，更具體的，本發(fā)明涉及一種用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液及蝕刻方法。

背景技術(shù)

目前，市場上已經(jīng)公開了一種金屬表面的裝飾方法，其中，該方法包括在金屬基材表面絲印形成圖案，接著依次進(jìn)行化學(xué)蝕刻、電化學(xué)拋光和沉積金屬層。其中，采用了電化學(xué)拋光步驟對蝕刻后的金屬板進(jìn)行適度拋光，使裝飾后的金屬板蝕刻部分的光澤度從現(xiàn)有技術(shù)的20GU以下提高到70GU以上，且非蝕刻部分的光澤度為600GU以上，可以使裝飾后的金屬板獲得光亮與半光亮相間的效果，從而提高了金屬裝飾板的外觀美觀效果。

但是電化學(xué)拋光只能增加工件的光亮度，并不具備蝕刻效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在至少解決上述技術(shù)問題之一。

為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液，該電蝕刻液至少具有下列優(yōu)點(diǎn)之一：蝕刻效果好，穩(wěn)定性好，安全性高。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出一種非晶合金材料件的蝕刻方法，該蝕刻方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)之一：方法簡單易行，操作過程安全性高。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液，所述電蝕刻液含有5～15wt％的拋光劑，5～15wt％的蝕刻劑以及0.7～7wt％的緩蝕劑。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液，由于拋光劑可以起電拋光作用，提升工件蝕刻區(qū)域的光澤度及去除工件化學(xué)蝕刻后的尖銳部分，掉高蝕刻區(qū)的平整性與均勻性，蝕刻劑可以起蝕刻作用，提升工件蝕刻后的尺寸精度，電蝕刻液在增加工件光亮度的同時(shí)，還能具備蝕刻作用，且在緩蝕劑作用下，蝕刻區(qū)底紋光滑、光澤度高，可有效提高工件表面裝飾性。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的用于電蝕刻非晶合金材料件的電蝕刻液，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述拋光劑為油酸。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述蝕刻劑為氯化鹽。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述非晶合金材料件為鋯基非晶合金材料件，所述蝕刻劑為氯化鋯。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述緩蝕劑為羧酸鹽和有機(jī)膦酸鹽，其中所述電蝕刻液含有0.5～5wt％的羧酸鹽和0.2～2wt％的有機(jī)膦酸鹽。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述羧酸鹽為選自甲酸鈉、乙酸鈉、苯甲酸鈉、硬脂酸鈉、月桂酸鈉、二甲苯磺酸鈉中的一種或多種。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述羧酸鹽為硬脂酸鈉、月桂酸鈉或其組合。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述有機(jī)膦酸鹽為選自氨基三甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸鈉、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸中的一種或多種。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述有機(jī)膦酸鹽為乙二胺四甲叉膦酸鈉。

另外，根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的非晶合金材料件的蝕刻方法，包括以下步驟：a)在所述非晶合金材料件表面設(shè)置掩模；b)使用化學(xué)蝕刻液對表面設(shè)置有掩模的非晶合金材料件進(jìn)行化學(xué)蝕刻；c)使用電蝕刻液對化學(xué)蝕刻后的非晶合金材料件進(jìn)行電蝕刻，其中所述電蝕刻液含有5～15wt％的拋光劑，5～15wt％的蝕刻劑以及0.7～7wt％的緩蝕劑；以及d)除去電蝕刻后的非晶合金材料件表面的掩模，得到帶有蝕刻圖案的非晶合金材料件。

根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的非晶合金材料件的蝕刻方法，由于在化學(xué)蝕刻之后還使用根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的電蝕刻液進(jìn)行電蝕刻，從而可以更好的控制蝕刻精度尺寸，電蝕刻還有拋光的作用，使蝕刻區(qū)底紋光滑且光澤度高，提高表面裝飾性。

根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的非晶合金材料件的蝕刻方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述非晶合金材料件為鋯基非晶合金材料件，所述化學(xué)蝕刻液含有10～30wt％鹽酸、10～30wt％硝酸鐵、02～2wt％三聚磷酸鹽及0.2％～2wt％苯并三唑或苯并三唑衍生物。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，在所述步驟c)中，使所述非晶合金材料件的設(shè)置有所述掩模的表面與所述電蝕刻液接觸且以所述非晶合金材料件為正極，以不銹鋼、鉛板或石墨板為負(fù)極，在所述正極和負(fù)極之間施加8～20V直流電壓及0.5A～2A/dm電流以便進(jìn)行電蝕刻。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述電蝕刻在常溫下進(jìn)行，所述電蝕刻的時(shí)間為3～20分鐘。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述拋光劑為油酸。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述蝕刻劑為氯化鹽。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，所述非晶合金材料件為鋯基非晶合金材料件，所述蝕刻劑為氯化鋯。