[發(fā)明專利]光耦合模塊及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110420852.2
• 申請(qǐng)日: 2011-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN103163600A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李秉衡
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B6/42
• 分類號(hào): G02B6/42;G02B6/255;G02B6/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光耦合模塊，包括襯底、光波導(dǎo)、電路基板及光學(xué)模組，該光波導(dǎo)裝設(shè)于該襯底及該電路基板之間，該光波導(dǎo)包括芯層及包層，該芯層具有耦光面，該包層包覆該芯層且露出該耦光面，該電路基板上貫通開設(shè)有與該耦光面相應(yīng)的透光孔，該光學(xué)模組設(shè)置于該透光孔上，并通過該透光孔與該耦光面進(jìn)行光耦合，其特征在于：該耦光面呈凸鏡狀，該耦光面能夠?qū)⑷肷渲猎撔緦拥墓庥嵦?hào)聚集進(jìn)行傳輸，也能夠?qū)脑撔緦拥某錾涞墓庥嵦?hào)聚集進(jìn)行傳輸。

2.如權(quán)利要求1所述的光耦合模塊，其特征在于：該耦光面呈半球面狀。

3.如權(quán)利要求1所述的光耦合模塊，其特征在于：該芯層包括主體及分別形成于該主體兩端的兩個(gè)傳輸端，該傳輸端背離該襯底延伸彎折，該耦光面的數(shù)量為二，該兩個(gè)耦光面分別設(shè)置于該兩個(gè)傳輸端遠(yuǎn)離該主體的末端面上。

4.如權(quán)利要求3所述的光耦合模塊，其特征在于：該電路基板上間隔開設(shè)有兩個(gè)透光孔，該光學(xué)模組包括分別設(shè)置于該兩個(gè)透光孔上的發(fā)光元件及受光元件，以分別與兩個(gè)耦光面進(jìn)行耦光。

5.如權(quán)利要求3所述的光耦合模塊，其特征在于：該主體包括底壁、頂壁及兩個(gè)反射壁，該底壁鄰近該襯底設(shè)置，該頂壁與該底壁平行設(shè)置，該反射壁連接該底壁與頂壁，該兩個(gè)傳輸端分別形成于該頂壁兩端。

6.如權(quán)利要求5所述的光耦合模塊，其特征在于：該反射壁與該底壁間的夾角等于135度。

7.一種光耦合模塊的制備方法，包括以下步驟：

提供一襯底；

提供包層材料，加熱包層材料至熔融狀態(tài)，將該熔融狀態(tài)的包層材料涂布于該襯底上，以形成第一包層預(yù)型體；

提供第一滾輪，該第一滾輪包括第一滾壓面，第一滾壓面開設(shè)若干第一壓槽；

采用第一滾輪壓制該第一包層預(yù)型體，形成第一包層，該第一包層上形成與該第一壓槽相對(duì)應(yīng)的收容空間；

提供芯層材料，加熱該芯層材料至熔融狀態(tài)，將熔融狀態(tài)的芯層材料涂布于該收容空間，以形成芯層預(yù)型體；

提供第二滾輪，該第二滾輪包括第二滾壓面，該第二滾壓面上開設(shè)有若干第二壓槽，該第二壓槽包括本部及相對(duì)設(shè)置于本部兩端的兩個(gè)連接部，該連接部遠(yuǎn)離該本部的一端截面呈凸鏡狀；

采用該第二滾輪壓制該芯層預(yù)型體的，以形成一個(gè)具有呈凸鏡狀耦光面的芯層；

將熔融狀態(tài)的包層材料涂布于該芯層及該第一包層上，且露出該耦光面，以形成第二包層預(yù)型體；

提供第三滾輪，該第三滾輪具有第三滾壓面；

采用該第三滾輪壓制該第二包層預(yù)型體，從而制得光波導(dǎo)；

提供一個(gè)貫通開設(shè)有透光孔的電路基板，將該電路基板裝設(shè)于該光波導(dǎo)上，該透光孔相對(duì)該耦光面；

提供或制備一個(gè)光學(xué)模組，將該光學(xué)模組裝設(shè)于該透光孔上方，從而制得光耦合模塊。

8.如權(quán)利要求7所述光耦合模塊的制備方法，其特征在于：該連接部遠(yuǎn)離該本部的一端截面呈半圓形，該耦光面呈半球面狀。

9.如權(quán)利要求8所述光耦合模塊的制備方法，其特征在于：該收容空間的底壁與側(cè)壁間的夾角為135度。

10.如權(quán)利要求7所述光耦合模塊的制備方法，其特征在于：該芯層包括主體及分別形成于該主體兩端的兩個(gè)傳輸端，該傳輸端背離該襯底延伸彎折，該耦光面的數(shù)量為兩個(gè)，該兩個(gè)耦光面分別設(shè)置于該兩個(gè)傳輸端遠(yuǎn)離該主體的末端面上。