[發明專利]一種半導體芯粒的清洗裝置無效
| 申請號： | 201110419204.5 | 申請日： | 2011-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN102522322A | 公開（公告）日： | 2012-06-27 |
| 發明（設計）人： | 吳慧;徐春葉;歐陽徑橋;張樂銀 | 申請（專利權）人： | 華東光電集成器件研究所 |
| 主分類號： | H01L21/02 | 分類號： | H01L21/02;B08B3/12 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113 | 代理人： | 楊晉弘 |
| 地址： | 233042 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 半導體 清洗 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種半導體芯粒的清洗裝置，其特征在于它由芯粒存放盤（2）和連接于芯粒存放盤（2）上的手柄（1）組成，芯粒存放盤表面設置有一組芯粒存放槽（3），每個芯粒存放槽的底面設置一個將芯粒存放盤貫通的清洗液滲漏孔（5）。
2.根據權利要求1所述的一種半導體芯粒的清洗裝置，其特征在于芯粒存放盤表面設置一組孔徑不同的芯粒存放槽（3）。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
