[發(fā)明專利]用于多重圖案化技術(shù)的單元布局

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110419100.4
• 申請(qǐng)日: 2011-12-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102542099A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳皇宇;侯元德;謝艮軒;劉如淦;魯立忠
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06F17/50
• 分類(lèi)號(hào): G06F17/50
• 代理公司: 北京德恒律師事務(wù)所 11306
• 代理人: 陸鑫;房嶺梅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及集成電路領(lǐng)域，更具體地，涉及用于多重圖案化技術(shù)的單元布局。

背景技術(shù)

在光刻系統(tǒng)中，為了獲得良好、高密度、高分辨率的圖案，需要達(dá)到高分辨率。在集成電路(IC)工業(yè)中應(yīng)用的光刻系統(tǒng)中，為了將電子器件圖案化，要將光投射到光刻膠上。光刻系統(tǒng)的分辨率的顯著改變對(duì)于高密度和高速度半導(dǎo)體IC芯片來(lái)說(shuō)的制造來(lái)說(shuō)是最重要的推動(dòng)因素之一。

通常，除了其他方面之外，光刻系統(tǒng)的分辨率取決于光的波長(zhǎng)。波長(zhǎng)從汞G-線(436nm)逐漸降低到ArF準(zhǔn)分子激光器線(193nm)，并且進(jìn)一步降低到157nm，并且可能降低到超紫外線輻射(EUV)波長(zhǎng)中。諸如相移掩模、離軸照明、浸入式光刻等等的其他技術(shù)進(jìn)一步導(dǎo)致了波長(zhǎng)的降低。然而，這些分辨率的改進(jìn)技術(shù)會(huì)受到物理上的和技術(shù)上的限制。

為了推動(dòng)光刻限制進(jìn)一步形成甚至更小的、封裝得更密集的器件，需要發(fā)展出多重圖案化技術(shù)(MPT)技術(shù)。多重圖案化技術(shù)將布局圖案分解為子圖案，然后使用兩個(gè)或者多個(gè)掩模印刷每個(gè)子圖案。然而，對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計(jì)人員和布置EDA(電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化)工具來(lái)說(shuō)，這些子圖案之間的相互影響可能會(huì)產(chǎn)生單元鄰接問(wèn)題。例如，當(dāng)兩個(gè)子圖案在沿著單元邊界的位置上有部分對(duì)象分配到同一掩模時(shí)，可能會(huì)產(chǎn)生單元鄰接問(wèn)題，從而，當(dāng)單元相互鄰近設(shè)置時(shí)，該部分對(duì)象相互之間靠得太近而難以通過(guò)單個(gè)掩模將該部分對(duì)象充分限定。

之前對(duì)于減輕或者解決多重圖案化技術(shù)的單元鄰接問(wèn)題的嘗試包括將較大緩沖區(qū)域包含在標(biāo)準(zhǔn)單元邊界中，或者將單元鄰接限制件強(qiáng)加到布置工具。在標(biāo)準(zhǔn)單元邊界內(nèi)插入較大的緩沖區(qū)可能會(huì)導(dǎo)致面積損失(area?penalty)，而在布置工具中施加復(fù)雜的單元鄰接限制件可能會(huì)導(dǎo)致質(zhì)量降低，比如使得時(shí)序優(yōu)化無(wú)效和使用率(面積損失)較低。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種方法，包括：將布置區(qū)域中的多個(gè)區(qū)域標(biāo)記為第一區(qū)域或者第二區(qū)域，布置區(qū)域具有多個(gè)單元；分析單元的子圖案的類(lèi)型，通過(guò)第一掩模和第二掩模限定子圖案；將第一區(qū)域與第一掩模相關(guān)聯(lián)，將第二區(qū)域與第二掩模相關(guān)聯(lián)；以及判斷單元的邊界區(qū)域是否包含通過(guò)與邊界區(qū)域不相關(guān)聯(lián)的掩模限定出的圖案，相鄰單元的邊界區(qū)域是相交替的。

其中，標(biāo)記包括：將一個(gè)或者多個(gè)區(qū)域標(biāo)記為第三區(qū)域。

其中，第一區(qū)域的寬度和第二區(qū)域的寬度取決于聚合物間距。

其中，分配給第一區(qū)域和第二區(qū)域不同的顏色。

該方法進(jìn)一步包括：當(dāng)判斷出邊界區(qū)域包含有通過(guò)與邊界區(qū)域不相關(guān)聯(lián)的掩模限定出的圖案，則修改單元的子圖案。

其中，修改包括修改掩模。

其中，任何一個(gè)單元均可具有與相同掩模相關(guān)聯(lián)的相鄰區(qū)域。

此外，本發(fā)明還提供了一種方法，包括：接收多個(gè)單元定義，每個(gè)單元定義均包括邊界區(qū)域的標(biāo)記，每個(gè)邊界區(qū)域標(biāo)記了多個(gè)掩模中的一個(gè)，每個(gè)單元定義均進(jìn)一步包括單元布局；以及將第一單元置于鄰近第二單元的位置，從而使得第一單元的邊界區(qū)域的類(lèi)型與第二單元的邊界區(qū)域的類(lèi)型不同。

其中，邊界區(qū)域的寬度基于聚合物間距。

其中，將特有的區(qū)域標(biāo)識(shí)分配給多個(gè)掩模中的一個(gè)。

其中，特有的區(qū)域標(biāo)識(shí)是顏色。

其中，邊界區(qū)域包括第一邊界區(qū)域，并且進(jìn)一步包括判斷第一邊界區(qū)域是否包含有與第一邊界區(qū)域不相關(guān)聯(lián)的掩模。

其中，當(dāng)確定出第一邊界區(qū)域包含有與第一邊界區(qū)域不相關(guān)聯(lián)的掩模時(shí)，修改單元布局。

其中，修改包括修改掩模。

其中，修改包括增大單元的尺寸。

其中，第一單元與相鄰單元類(lèi)型相同。

此外，本發(fā)明提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品具有其上嵌入有計(jì)算機(jī)程序的非瞬時(shí)性、計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，計(jì)算機(jī)程序包括：用于接收布置區(qū)域的計(jì)算機(jī)程序代碼，布置區(qū)域具有多個(gè)單元；用于標(biāo)記布置區(qū)域中的多個(gè)區(qū)域的計(jì)算機(jī)程序代碼，多個(gè)區(qū)域被分為多種區(qū)域類(lèi)型；用于標(biāo)記其中設(shè)置有區(qū)域單元圖案的計(jì)算機(jī)程序代碼；以及用于將單元圖案置于布置區(qū)域中從而使得相鄰元件的邊界區(qū)域不同的計(jì)算機(jī)程序代碼。

其中，區(qū)域的類(lèi)型被可視地標(biāo)記在顯示器上。

其中，區(qū)域的類(lèi)型通過(guò)不同顏色被可視地標(biāo)記出。

其中，第一單元圖案包括類(lèi)型相同的相鄰區(qū)域。

附圖說(shuō)明

為了全面理解本公開(kāi)及其優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)在結(jié)合附圖進(jìn)行以下描述作為參考，其中：

圖1-圖4示出了根據(jù)實(shí)施例的單元布局工藝的步驟；