[發(fā)明專利]蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110417068.6 | 申請日: | 2011-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN103160775A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 敖偉;邱勇;陳紅;黃秀頎;何麟 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山工研院新型平板顯示技術(shù)中心有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04 |
| 代理公司: | 蘇州威世朋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 楊林潔;黃曉明 |
| 地址: | 215300 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍掩膜板 對位 系統(tǒng) | ||
1.一種蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:其包括設(shè)置在掩膜板的四個邊角上的第一對位標(biāo)識、設(shè)置在基板上的四個用以分別和第一對位標(biāo)識進(jìn)行相對位的第二對位標(biāo)識、以及設(shè)置在掩膜板正上方的用以判斷第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識是否對齊吻合的四個攝像頭,該攝像頭分別具有觀察到第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識的可視范圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:所述第一對位標(biāo)識上和第二對位標(biāo)識具有與可視范圍相交的對位標(biāo)識延長線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:所述對位標(biāo)識延長線與可視范圍相交形成至少兩個相交點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:位于掩膜板對角線上的兩個可視范圍內(nèi)的對位標(biāo)識延長線上標(biāo)有刻度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:相鄰的兩根對位標(biāo)識延長線相位于同一條直線上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識完全相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板對位系統(tǒng),其特征在于:所述第一對位標(biāo)識和第二對位標(biāo)識均為“十”字形。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





