[發(fā)明專利]曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110398588.7
• 申請(qǐng)日: 2011-12-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102591156A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 施明宏;許哲豪;薛景峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 歐陽(yáng)啟明

1.一種曝光裝置，用于對(duì)一透光基板上的光阻層進(jìn)行曝光，其特征在于：所述曝光裝置包括：

光掩模，設(shè)置于所述透光基板的一側(cè)，其中所述光阻層是位于所述透光基板的相對(duì)一側(cè)；

曝光光源，用于提供光線至所述光阻層，其中所述曝光光源所提供的光線是穿過(guò)所述光掩模及所述透光基板來(lái)到達(dá)所述光阻層；以及

反射板，設(shè)置于所述透光基板的所述相對(duì)一側(cè)，且面對(duì)于所述光阻層，用于將穿過(guò)所述透光基板及所述光阻層的光線反射回所述光阻層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述光掩模包括透光開(kāi)口，所述透光開(kāi)口小于3um。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于：所述透光開(kāi)口等于或小于2um。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板的反射表面為平坦表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板具有多個(gè)凸面結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：所述反射板具有多個(gè)凹面結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：當(dāng)進(jìn)行曝光時(shí)，所述反射板是平行于所述透光基板上的所述光阻層。

8.一種曝光方法，用于對(duì)一透光基板上的光阻層進(jìn)行曝光，其特征在于：所述曝光方法包括如下步驟：

提供光掩模及反射板，其中所述光掩模是設(shè)置于所述透光基板的一側(cè)，所述反射板是設(shè)置于所述透光基板的所述相對(duì)一側(cè)，且面對(duì)于所述光阻層；

利用曝光光源來(lái)提供光線至所述光阻層，其中所述曝光光源所提供的光線是穿過(guò)所述光掩模及所述透光基板來(lái)到達(dá)所述光阻層；以及

利用反射板來(lái)將穿過(guò)所述透光基板及所述光阻層的光線反射回所述光阻層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于：所述光掩模包括透光開(kāi)口，所述透光開(kāi)口小于3um。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于：所述反射板是平行于所述透光基板上的所述光阻層。