[發明專利]對準主玻璃件及其制造方法和拉緊氣相沉積掩膜的方法

有效

• 申請號: 201110398155.1
• 申請日: 2011-12-05
• 公開（公告）號: CN102593377A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 李相信
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C16/455
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 羅正云;宋志強

技術領域

示例實施例涉及用于拉緊氣相沉積掩膜的對準主玻璃件、制造該對準主玻璃件的方法以及使用該對準主玻璃件拉緊該氣相沉積掩膜的方法。更具體地說，示例實施例涉及用于拉緊氣相沉積掩膜以沉積有機發光顯示裝置的有機發射層的對準主玻璃件、制造該對準主玻璃件的方法以及使用該對準主玻璃件拉緊該氣相沉積掩膜的方法。

背景技術

近來，被認為是自發光型顯示裝置的電致發光(EL)裝置由于例如寬視角、良好對比度和快速響應特性而作為下一代顯示裝置獲得了許多關注。例如，有機EL裝置可以包括在透明絕緣基板上形成為預定圖案的一系列第一電極、通過真空沉積形成在透明絕緣基板上的有機發射層，以及形成在有機發射層上以充當與第一電極交叉的陰極電極的一系列第二電極。

在制造具有以上所述這種結構的有機EL裝置中，第一電極可以通過濕法蝕刻，例如光刻法被圖案化。不過，在光刻法被應用于蝕刻第二電極時，液體可能滲入有機發射層與第二電極之間的界面中，同時所使用的抗蝕劑被剝落并且第二電極被蝕刻，從而惡化有機EL裝置的性能和壽命特性。例如，如果在有機層的至少一部分形成之后執行濕法蝕刻工藝，則濕氣可能在濕法蝕刻工藝期間滲入或殘留在有機層中，從而顯著惡化完成的有機EL裝置的性能和壽命特性。

鑒于上述情況，有機層，即實施預定顏色的發射有機層，以及形成在有機層上的第二電極可以通過沉積被圖案化，例如被微圖案化。例如，沉積方法可以包括使用在其主薄板中具有間隔開預定距離的一系列長狹縫的掩膜。在另一示例中，沉積方法可以使用由具有成網格圖案的狹縫部分和橋部分的金屬薄板制成的掩膜。

在又一示例中，沉積方法可以使用通過施加至金屬薄板，例如氣相沉積掩膜的拉力例如借助粘附或焊接被固定至該金屬薄板的支撐框架。例如，參照圖1，拉力可以利用拉緊裝置被施加到氣相沉積掩膜1，該氣相沉積掩膜1包括位于基板2上的多個開口3，這樣材料可以通過開口3被沉積以形成期望的圖案。不過，盡管金屬薄板與基板之間有粘附力，但是金屬薄板中的開口可能由于金屬薄板的重量而從基板下陷，即使金屬薄板的邊緣可以在框架拉力下得到支撐。另外，由于在形成有機薄膜期間溫度升高而引起的掩膜的熱膨脹可能促進開口的這種下陷。

發明內容

示例實施例提供一種用于拉緊氣相沉積掩膜的對準主玻璃件，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。

示例實施例還提供一種制造用于拉緊氣相沉積掩膜的對準主玻璃件的方法，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。

示例實施例還提供一種使用用于拉緊氣相沉積掩膜的對準主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。

根據示例實施例的一方面，提供一種在拉緊氣相沉積掩膜以沉積有機材料中，用于對準形成于所述氣相沉積掩膜中的多個開口的對準主玻璃件，該對準主玻璃件包括：透明基板；和位于所述透明基板的至少一個表面上的反射膜圖案，所述反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個開口相對應的位置處。

所述反射膜圖案可以包括金屬材料。

所述反射膜圖案可以包括鉬(Mo)和鎢(W)中至少之一。

所述反射膜圖案可以比所述多個開口小。

根據示例實施例的一方面，提供一種用于制造對準主玻璃件的方法，所述對準主玻璃件用于拉緊具有用于沉積有機材料的多個開口的氣相沉積掩膜，所述方法包括：提供透明基板；以及在所述透明基板的至少一個表面上形成反射膜圖案，使得所述反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個開口相對應的位置處。

形成所述反射膜圖案可以包括形成由金屬材料制成的圖案。

形成所述反射膜圖案可以包括形成由鉬(Mo)和鎢(W)中至少之一制成的圖案。

形成所述反射膜圖案可以包括形成比所述多個開口小的所述反射膜圖案。