[發(fā)明專(zhuān)利]對(duì)準(zhǔn)主玻璃件及其制造方法和拉緊氣相沉積掩膜的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110398155.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102593377A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李相信 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L51/56 | 分類(lèi)號(hào): | H01L51/56;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 羅正云;宋志強(qiáng) |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 對(duì)準(zhǔn) 玻璃 及其 制造 方法 拉緊 沉積 | ||
1.一種對(duì)準(zhǔn)主玻璃件,用于對(duì)準(zhǔn)氣相沉積掩膜的多個(gè)開(kāi)口以拉緊所述氣相沉積掩膜,該對(duì)準(zhǔn)主玻璃件包括:
透明基板;和
位于所述透明基板的至少一個(gè)表面上的多個(gè)反射膜圖案,所述多個(gè)反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開(kāi)口相對(duì)應(yīng)的位置處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)主玻璃件,其中所述多個(gè)反射膜圖案包括金屬材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對(duì)準(zhǔn)主玻璃件,其中所述多個(gè)反射膜圖案包括鉬和鎢中至少之一。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)主玻璃件,其中所述多個(gè)反射膜圖案比所述多個(gè)開(kāi)口小。
5.一種用于制造對(duì)準(zhǔn)主玻璃件的方法,所述對(duì)準(zhǔn)主玻璃件用于拉緊具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開(kāi)口的氣相沉積掩膜,所述方法包括:
提供透明基板;以及
在所述透明基板的至少一個(gè)表面上形成多個(gè)反射膜圖案,使得所述多個(gè)反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開(kāi)口相對(duì)應(yīng)的位置處。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造對(duì)準(zhǔn)主玻璃件的方法,其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成由金屬材料制成的圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造對(duì)準(zhǔn)主玻璃件的方法,其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成由鉬和鎢中至少之一制成的圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造對(duì)準(zhǔn)主玻璃件的方法,其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成比所述多個(gè)開(kāi)口小的所述多個(gè)反射膜圖案。
9.一種使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,該方法包括:
提供所述氣相沉積掩膜,所述氣相沉積掩膜具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開(kāi)口;
提供用于拉緊所述氣相沉積掩膜的所述對(duì)準(zhǔn)主玻璃件,所述對(duì)準(zhǔn)主玻璃件包括僅被形成在與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開(kāi)口相對(duì)應(yīng)的位置處的多個(gè)反射膜圖案;
使用拉緊裝置拉緊所述氣相沉積掩膜;
使得所述多個(gè)開(kāi)口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心彼此相重合;
獲得反射光圖像,該反射光圖像指示所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開(kāi)口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心被對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài);以及
分析所述反射光圖像并且確定在拉緊之后所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開(kāi)口和所述多個(gè)反射膜圖案被對(duì)準(zhǔn)的所述對(duì)準(zhǔn)狀態(tài),
其中所述反射光圖像中的在對(duì)準(zhǔn)的多個(gè)開(kāi)口和多個(gè)反射膜圖案之間的第一區(qū)域?qū)?yīng)于暗部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,進(jìn)一步包括:在所述多個(gè)開(kāi)口的中心不與所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合時(shí),基于所述氣相沉積掩膜的第一軸和第二軸重復(fù)執(zhí)行拉緊的步驟到分析的步驟。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,其中所述第一區(qū)域由對(duì)準(zhǔn)的多個(gè)開(kāi)口的外邊界和相應(yīng)的多個(gè)反射膜圖案的外邊界之間的區(qū)域來(lái)限定。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,其中所述反射光圖像進(jìn)一步包括除了所述第一區(qū)域之外的第二區(qū)域,所述第二區(qū)域形成所述反射光圖像上的亮部分。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,其中使得所述多個(gè)開(kāi)口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合包括:
基于第一軸測(cè)量所述多個(gè)開(kāi)口的寬度并且確定所述多個(gè)開(kāi)口的中心;
基于第二軸測(cè)量所述多個(gè)反射膜圖案的寬度并且確定所述多個(gè)反射膜圖案的中心;以及
移動(dòng)所述氣相沉積掩膜或所述對(duì)準(zhǔn)主玻璃件以使得所述多個(gè)開(kāi)口的寬度的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的寬度的中心彼此相重合。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,其中使得所述多個(gè)開(kāi)口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合進(jìn)一步包括基于所述第一軸和所述第二軸重復(fù)執(zhí)行測(cè)量的步驟到移動(dòng)的步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對(duì)準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法,其中分析所述反射光圖像并且確定所述對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)包括:
基于第一軸測(cè)量所述多個(gè)開(kāi)口的寬度并且確定所述多個(gè)開(kāi)口的寬度的中心;
基于第二軸測(cè)量所述多個(gè)反射膜圖案的寬度并且確定所述多個(gè)反射膜圖案的寬度的中心;以及
確定所述多個(gè)開(kāi)口的寬度的中心與所述多個(gè)反射膜的寬度的中心是否相重合。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專(zhuān)門(mén)適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專(zhuān)門(mén)適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
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