[發(fā)明專(zhuān)利]殼體及其制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110395121.7 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103140067A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹達(dá)華;劉旭 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H05K5/00 | 分類(lèi)號(hào): | H05K5/00;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/06 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 殼體 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法,尤其涉及一種具有鮮艷藍(lán)色金屬外觀的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)
鮮艷的藍(lán)色是一種具有吸引力的色彩。為了使電子裝置外殼呈現(xiàn)具有金屬質(zhì)感的鮮艷藍(lán)色,現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)光學(xué)鍍膜工藝在外殼上形成一層很薄的光學(xué)膜,該光學(xué)膜通過(guò)光的干涉原理來(lái)獲得鮮艷的藍(lán)色,然而由于該光學(xué)膜非常薄,不耐磨;而且,通常光學(xué)膜從不同的角度觀,會(huì)呈現(xiàn)不同的顏色,因此,通過(guò)光學(xué)膜呈現(xiàn)的鮮艷藍(lán)色是不穩(wěn)定的。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種具有金屬質(zhì)感的鮮艷藍(lán)色外觀、且耐磨的殼體。
另外,本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。
一種殼體,包括基體,該殼體還包括形成于該基體表面的結(jié)合層、形成于該結(jié)合層上的硬質(zhì)層以及形成于該硬質(zhì)層上的顏色層,該硬質(zhì)層由鉻元素與碳元素組成,該顏色層由鉻元素、氧元素和氮元素組成,顏色層中鉻元素、氧元素及氮元素的原子個(gè)數(shù)比為(0.8-1.0):(1.2-1.5):(0.3-0.5),該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)為35至40,a*坐標(biāo)為0至3,b*坐標(biāo)為-10至-15。
所述顏色層肉眼直觀表現(xiàn)為鮮艷的藍(lán)色。
所述結(jié)合層及硬質(zhì)層也可以省略,此時(shí),該顏色層可直接形成于基體的表面上。
一種殼體的制作方法,包括采用磁控濺射方法在基體上依次沉積結(jié)合層、硬質(zhì)層及顏色層,其中,
沉積該結(jié)合層是在濺射條件下,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到基體表面形成結(jié)合層,所述磁控靶為鉻靶、鈦靶及鋯靶中的一種;
積該硬質(zhì)層是在濺射條件下,以乙炔為反應(yīng)氣體,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到該結(jié)合層表面形成由碳元素與鉻元素組成的硬質(zhì)層,所述磁控靶為鉻靶;
沉積該顏色層是在濺射條件下,以氧氣與氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到該硬質(zhì)層表面形成由鉻元素、氧元素與氮元素組成的顏色層,所述磁控靶為鉻靶。
所述殼體的表面形成有該由鉻元素、氧元素及氮元素組成的顏色層,該顏色層不但呈現(xiàn)出鮮艷的藍(lán)色,而且具有金屬質(zhì)感,使殼體具有亮麗的外觀。而且,顏色層所呈現(xiàn)的顏色為其自身的色彩,而非通過(guò)光學(xué)干涉所產(chǎn)生,因此相比于光學(xué)鍍膜所呈現(xiàn)的藍(lán)色更為穩(wěn)定。另外,形成于殼體表面的膜系由結(jié)合層、由鉻元素與碳元素組成的硬質(zhì)層以及由鉻元素、氧元素及氮元素組成的顏色層組成,該膜系具有較高的硬度,因此耐磨性較好。
所述殼體的制備方法通過(guò)磁控濺射方法在形成所述顏色層時(shí),通過(guò)對(duì)靶材的選取,同時(shí)對(duì)反應(yīng)氣體氧氣與氮?dú)饬髁康脑O(shè)計(jì)及膜厚實(shí)時(shí)監(jiān)控,從而達(dá)到使顏色層呈現(xiàn)穩(wěn)定的鮮艷藍(lán)色的目的。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明一較佳實(shí)施例殼體的剖視圖。
圖2是圖1所示殼體的制作過(guò)程中所用磁控濺射設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
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