[發(fā)明專利]殼體及其制作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110395121.7 | 申請日: | 2011-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN103140067A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曹達華;劉旭 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/00 | 分類號: | H05K5/00;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 殼體 及其 制作方法 | ||
1.一種殼體,包括基體,其特征在于:該殼體還包括形成于該基體表面的結(jié)合層、形成于該結(jié)合層上的硬質(zhì)層以及形成于該硬質(zhì)層上的顏色層,該硬質(zhì)層由鉻元素與碳元素組成,該顏色層由鉻元素、氧元素和氮元素組成,顏色層中鉻元素、氧元素及氮元素的原子個數(shù)比為(0.8-1.0):(1.2-1.5):(0.3-0.5),該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標為35至40,a*坐標為0至3,b*坐標為-10至-15。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該顏色層的厚度為0.3μm-0.6μm。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該結(jié)合層由鉻、鈦及鋯中的一種形成。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該硬質(zhì)層中碳元素與鉻元素的原子個數(shù)比為1:1。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該基體的材質(zhì)為不銹鋼、鈦合金、銅合金及玻璃中的一種。
6.如權(quán)利要求1所述的殼體,其特征在于:該顏色層通過磁控濺射方法形成。
7.一種殼體,包括基體,其特征在于:該殼體還包括形成于該基體表面的顏色層,該顏色層由鉻元素、氧元素和氮元素組成,顏色層中鉻元素、氧元素及氮元素的原子個數(shù)比為(0.8-1.0):(1.2-1.5):(0.3-0.5),該顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標為35至40,a*坐標為0至3,b*坐標為-10至-15。
8.一種殼體的制作方法,包括采用磁控濺射方法在基體上依次沉積結(jié)合層、硬質(zhì)層及顏色層,其中,
沉積該結(jié)合層是在濺射條件下,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到基體表面形成結(jié)合層,所述磁控靶為鉻靶、鈦靶及鋯靶中的一種;
積該硬質(zhì)層是在濺射條件下,以乙炔為反應氣體,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到該結(jié)合層表面形成由碳元素與鉻元素組成的硬質(zhì)層,所述磁控靶為鉻靶;
沉積該顏色層是在濺射條件下,以氧氣與氮氣為反應氣體,在磁控靶上施加電源使磁控靶上的靶材物質(zhì)濺射并沉積到該硬質(zhì)層表面形成由鉻元素、氧元素與氮元素組成的顏色層,所述磁控靶為鉻靶。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法,其特征在于:磁控濺射條件包括以惰性氣體為濺射氣體,濺射氣體的流量為150sccm-250sccm;濺射的絕對壓力為0.3Pa-0.6Pa;濺射溫度為110℃-180℃。
10.如權(quán)利要求9所述的殼體的制作方法,其特征在于:所述沉積該結(jié)合層的電源功率為10kW-15kW;沉積溫度為150℃-180℃;沉積時間為5min-10min。
11.如權(quán)利要求9所述的殼體的制作方法,其特征在于:所述沉積該硬質(zhì)層的電源功率為12kW-16kW;沉積溫度為150℃-180℃;沉積時間為60min-90min;乙炔的流量為60sccm-90sccm。
12.如權(quán)利要求9所述的殼體的制作方法,其特征在于:所述沉積該顏色層的電源功率為12kW-15kW;沉積溫度為110℃-130℃;氧氣的流量為60sccm-90sccm,氮氣的流量為30sccm-60sccm。
13.如權(quán)利要求12所述的殼體的制作方法,其特征在于:所述氧氣的流量為70sccm-80sccm。
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