[發明專利]一種局部用溫敏型抗菌藥緩釋劑及其制備方法無效
| 申請號: | 201110394438.9 | 申請日: | 2011-12-02 |
| 公開(公告)號: | CN102441171A | 公開(公告)日: | 2012-05-09 |
| 發明(設計)人: | 侯春林;劉文;魏長征 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍第二軍醫大學 |
| 主分類號: | A61K47/36 | 分類號: | A61K47/36;A61K45/00;A61K9/08;A61P31/04 |
| 代理公司: | 上海元一成知識產權代理事務所(普通合伙) 31268 | 代理人: | 趙青 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 局部 用溫敏型 抗菌 藥緩釋劑 及其 制備 方法 | ||
1.一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于該緩釋劑是通過以下方法制得的:在大于0℃且小于20℃的溫度下制備均質羥丁基殼聚糖溶液,然后將抗菌藥物均勻分散包埋其中,即得到以羥丁基殼聚糖作為緩釋載體的抗菌藥緩釋劑。
2.根據權利要求1所述的一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于該緩釋劑的具體制備方法如下:在大于0℃且小于20℃的溫度下使用溶劑制備1-10%(W/V)羥丁基殼聚糖溶液,在容器中以50-200轉/分的速度攪拌2-6小時,使溶液呈均質狀態;然后加入相同溶劑配制的0.1%-50%(W/V)抗菌藥物溶液,使藥物濃度終為0.1%-20%(W/V);50-200轉/分攪拌1-3小時,使溶液呈均質狀態,即得。
3.根據權利要求2所述的一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于其中所述的溶劑是雙蒸水、生理鹽水、注射用水或pH6.8-pH7.5緩沖液。
4.根據權利要求1、2或3所述的一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于其中所述的抗菌藥物是水溶性抗菌藥物。
5.根據權利要求4所述的一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于其中所述的抗菌藥物選自以下任意一種或兩種以上:頭孢唑啉、頭孢噻吩、頭孢乙腈、頭孢匹林、頭孢硫脒、頭孢西酮、頭孢拉定、頭孢呋辛、頭孢替安、頭孢孟多、頭孢尼西、頭孢雷特、頭孢噻肟、頭孢曲松、頭孢他啶、頭孢哌酮、頭孢唑肟、頭孢地秦、頭孢匹胺、頭孢甲肟、頭孢磺啶、頭孢匹羅、頭孢吡肟、頭孢西丁、頭孢美唑、頭孢替坦、頭孢拉宗、頭孢米諾、克林霉素、林可霉素、萬古霉素、去甲萬古霉素、替考拉寧、諾氟沙星、環丙沙星、氧氟沙星、依諾沙星、培氟沙星、洛美沙星、氟羅沙星、西洛沙星、帕珠沙星、克林沙星、格雷沙星、氨氟沙星、托舒沙星、普瑞沙星、奧比霉素、奧拉沙星、卡曲沙星、左氧氟沙星、加替沙星、諾替沙星、吉米沙星。
6.根據權利要求1、2或3所述的一種局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑,其特征在于該緩釋劑是緩釋注射劑或緩釋植入劑。
7.一種如權利要求1所述的局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑的制備方法,具體步驟如下:在大于0℃且小于20℃的溫度下使用溶劑制備1-10%(W/V)羥丁基殼聚糖溶液,在容器中以50-200轉/分的速度攪拌2-6小時,使溶液呈均質狀態;然后加入相同溶劑配制的0.1%-50%(W/V)抗菌藥物溶液,使藥物濃度終為0.1%-20%(W/V);50-200轉/分攪拌1-3小時,使溶液呈均質狀態,即得。
8.根據權利要求7所述的局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑的制備方法,其特征在于其中所述的溶劑是雙蒸水、生理鹽水、注射用水或pH6.8-pH7.5緩沖液。
9.根據權利要求7或8所述的局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑的制備方法,其特征在于其中所述的抗菌藥物是水溶性抗菌藥物。
10.根據權利要求9所述的局部用的溫敏型抗菌藥緩釋劑的制備方法,其特征在于其中所述的抗菌藥物選自以下任意一種或兩種以上:頭孢唑啉、頭孢噻吩、頭孢乙腈、頭孢匹林、頭孢硫脒、頭孢西酮、頭孢拉定、頭孢呋辛、頭孢替安、頭孢孟多、頭孢尼西、頭孢雷特、頭孢噻肟、頭孢曲松、頭孢他啶、頭孢哌酮、頭孢唑肟、頭孢地秦、頭孢匹胺、頭孢甲肟、頭孢磺啶、頭孢匹羅、頭孢吡肟、頭孢西丁、頭孢美唑、頭孢替坦、頭孢拉宗、頭孢米諾、克林霉素、林可霉素、萬古霉素、去甲萬古霉素、替考拉寧、諾氟沙星、環丙沙星、氧氟沙星、依諾沙星、培氟沙星、洛美沙星、氟羅沙星、西洛沙星、帕珠沙星、克林沙星、格雷沙星、氨氟沙星、托舒沙星、普瑞沙星、奧比霉素、奧拉沙星、卡曲沙星、左氧氟沙星、加替沙星、諾替沙星、吉米沙星。
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