[發明專利]基片上料組件、基片裝卸載裝置和PECVD設備有效
| 申請號: | 201110393737.0 | 申請日: | 2011-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN103132055A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發明(設計)人: | 盧川 | 申請(專利權)人: | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基片上料 組件 裝卸 裝置 pecvd 設備 | ||
技術領域
本發明涉及一種基片上料組件,基片裝卸載裝置和PECVD設備。?
背景技術
在基片處理領域,例如在等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統中,基片在裝載臺區域被裝載到載板上,進入預熱腔室進行預熱處理,當基片達到工藝溫度要求后被傳送至工藝腔室進行PECVD工藝,然后由冷卻腔室傳出腔室系統到達卸載臺。卸載臺和裝載臺可以升降,在卸載臺將載板降到下層后傳到回收系統,然后傳輸到裝載臺下方,再升到裝載臺上層進行下一個循環。?
傳統裝載臺主要包括上料臺、下料臺、龍門架和傳送帶,基片在載板與上料臺和下料臺之間的傳輸由機械手和龍門架完成。上料機械手每次將一個基片傳送到上料傳送帶上,然后龍門架移動到上料傳送帶上方,將基片輸送到載板上。同時,龍門架將載板上已經處理過的基片傳輸到下料傳送帶上,再由下料機械手從下料傳送帶上傳輸到下料臺上。傳統上,常因龍門架已經完成基片的裝卸載而上料臺還在由上料機械手向上料傳送帶上進行上片操作,因此龍門架只能等待上片完畢才能將基片傳送到在載板上,所以上料速度慢,大大降低工作效率。?
發明內容
本發明旨在至少解決上述技術問題之一。為此,本發明的一個目的在于提出一種基片上料組件,該基片上料組件可以提高基片的上料效率。?
本發明的另一目的在于提出一種具有上述基片上料組件的基片裝卸載裝置,該基片裝卸載裝置具有提高的基片裝卸載效率。?
本發明的再一目的在于提出一種具有上述基片裝卸載裝置的PECVD設備。?
根據本發明第一方面實施例的基片上料組件,包括:料盒,所述料盒內具有用于存放基片的盒腔,所述基片在盒腔內適于沿料盒的上下方向排列成多層且沿料盒的左右方向排列成多排;上料傳送帶,所述上料傳送帶用于傳送所述基片;和?
上料機械手,所述上料機械手具有支架、手臂和多個基片吸附件,所述手臂的一端與所述支架相連,所述多個基片吸附件設在所述手臂上且沿所述手臂的長度方向間隔開以便所述上料機械手能夠從所述料盒內同一層的多排基片中同時吸附出多個基片放置到所述上料傳送帶上。?
根據本發明實施例的基片上料組件,通過在機械手的手臂上設置有多個基片吸附件,?使得機械手可以從料盒中同時吸取多個基片,大大增加了基片的上料效率。另外,由于多個基片吸附件設置在一個手臂上,在不增加上料機械手的前提下,增加了基片吸附件的數量,降低了成本且結構簡單。?
根據本發明的一個實施例,所述基片吸附件的個數與所述料盒內同一層的基片排數相同。?
根據本發明的一個實施例,所述基片吸附件為兩個,且所述盒腔的頂面、底面和右側面敞開,所述盒腔的前側壁上設有沿所述料盒的上下方向間隔排列的多個第一凹槽和沿所述上下方向間隔排列的多個第二凹槽,所述盒腔的后側壁上設有沿所述上下方向間隔排列的多個第三凹槽和沿所述上下方向間隔排列的多個第四凹槽,所述第一凹槽在所述料盒的左右方向上與所述第二凹槽一一對應并連通且在所述料盒的前后方向上與所述第三凹槽一一對應,所述第四凹槽在所述左右方向上與所述第三凹槽一一對應并彼此連通且在所述前后方向上與所述第二凹槽一一對應。?
在本發明的一個示例中,所述基片吸附件為吸盤。?
根據本發明第二方面實施例的基片裝卸載裝置,包括:基片上料組件,所述基片上料組件為根據本發明第一方面實施例所述的基片上料組件;上料臺,所述上料臺的位置與所述基片上料組件的上料傳送帶對應且所述基片上料組件的料盒放置在所述上料臺上;下料傳送帶,所述下料傳送帶與所述上料傳送帶并列設置;下料臺,所述下料臺的位置與所述下料傳送帶對應;下料機械手,所述下料機械手用于將所述下料傳送帶上的基片放置到所述下料臺上;載板,載板用于承載基片且與所述上料傳送帶和所述下料傳送帶并列設置;和龍門架,所述龍門架具有多個傳送吸盤且所述龍門架在所述載板、所述上料傳送帶和所述下料傳送帶上方可移動以便通過所述多個傳送吸盤將所述上料傳送帶上的多個基片一次傳送到所述載板上以及將所述載板上的多個基片一次傳送到所述下料傳送帶上。?
根據本發明實施例的基片裝卸載裝置,在上料過程中,能同時吸取多個基片,由此加快了基片的上料速度。當龍門架完成卸載工藝后的基片時,龍門架不用等待上料機械手往上料傳送帶上傳送基片,而是可以緊接著將待加工的基片從上料傳送帶上裝載到載板上,大大提高了基片的裝卸載效率,進而提高了整個工藝的效率。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





