[發(fā)明專利]晶片缺陷的檢測(cè)方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110391378.5 | 申請(qǐng)日: | 2011-11-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102412168A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王洲男;龍吟;倪棋梁;陳宏璘;郭明升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;G01N21/95 |
| 代理公司: | 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅會(huì);郭曉東 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶片 缺陷 檢測(cè) 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種晶片缺陷的檢測(cè)方法,用于分別在各檢測(cè)站中檢測(cè)并確定晶片上的缺陷的生產(chǎn)機(jī)臺(tái),其特征在于,包括:
關(guān)聯(lián)步驟,使缺陷類型分別與各生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組相關(guān)聯(lián);
掃描步驟,對(duì)晶片進(jìn)行掃描并生成缺陷數(shù)據(jù);
缺陷判斷步驟,基于規(guī)定缺陷數(shù)據(jù)判斷各所述晶片是否存在缺陷;
組別判斷步驟,在所述缺陷判斷步驟的判斷結(jié)果為是的情況下,判斷所述缺陷的缺陷類型;
報(bào)警步驟,根據(jù)組別判斷步驟的判定結(jié)果發(fā)出警報(bào);
缺陷處理步驟,對(duì)報(bào)警的生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組進(jìn)行處理。
2.如權(quán)利要求1所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,所述缺陷類型分為非特定缺陷和特定缺陷,
當(dāng)在所述組別判斷步驟中,判定為屬于所述特定缺陷的情況下,在所述報(bào)警步驟中,進(jìn)行特殊報(bào)警;當(dāng)在所述組別判斷步驟中,判定為屬于所述非特定缺陷的情況下,使與經(jīng)由所述組別判斷步驟判定的所述缺陷類型相關(guān)聯(lián)的生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組發(fā)出警報(bào)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,還包括記憶步驟,在該記憶步驟中,記憶在所述檢測(cè)站進(jìn)行處理的所述生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組的信息。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,
所述缺陷數(shù)據(jù)指所述晶片上的缺陷的數(shù)量,
所述規(guī)定缺陷數(shù)據(jù)指預(yù)先確定的允許的缺陷的數(shù)量,
在所述掃描步驟中生成的所述缺陷數(shù)據(jù)為所述規(guī)定缺陷數(shù)據(jù)以下時(shí),判定所述晶片不存在缺陷。
5.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,所述生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組是按照生產(chǎn)機(jī)臺(tái)所具有的反應(yīng)腔的數(shù)量或反應(yīng)腔特點(diǎn)進(jìn)行劃分的,
各所述缺陷類型分別與各所述生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組相對(duì)應(yīng)。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,
在所示掃描步驟,對(duì)一批次的所述晶片進(jìn)行掃描,
所述缺陷類型是對(duì)一批次的所述晶片的缺陷進(jìn)行分類而得到的類型。
7.一種晶片缺陷的檢測(cè)方法,用于分別在各檢測(cè)站中檢測(cè)并確定晶片上的缺陷的機(jī)械手,其特征在于,包括:
關(guān)聯(lián)步驟,使缺陷類型分別與各機(jī)械手組相關(guān)聯(lián);
掃描步驟,對(duì)晶片進(jìn)行掃描并生成缺陷數(shù)據(jù);
缺陷判斷步驟,基于規(guī)定缺陷數(shù)據(jù)判斷所述晶片是否存在缺陷;
組別判斷步驟,在所述缺陷判斷步驟的判斷結(jié)果為是的情況下,判斷所述缺陷的缺陷類型;
報(bào)警步驟,根據(jù)組別判斷步驟的判定結(jié)果發(fā)出警報(bào);
缺陷處理步驟,對(duì)報(bào)警的生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組進(jìn)行處理。
8.如權(quán)利要求7所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,所述缺陷類型分為非特定缺陷和特定缺陷,
當(dāng)在所述組別判斷步驟中,判定為屬于所述特定缺陷的情況下,在所述報(bào)警步驟中,進(jìn)行特殊報(bào)警;當(dāng)在所述組別判斷步驟中,判定為屬于所述非特定缺陷的情況下,向與經(jīng)由所述組別判斷步驟判定的所述缺陷類型相關(guān)聯(lián)的機(jī)械手組發(fā)出警報(bào)。
9.如權(quán)利要求7或8所述的晶片缺陷的檢測(cè)方法,其特征在于,還包括記憶步驟,在該記憶步驟中,記憶在所述檢測(cè)站進(jìn)行處理的所述機(jī)械手組的信息。
10.一種晶片缺陷的檢測(cè)系統(tǒng),用于分別在各檢測(cè)站中檢測(cè)并確定晶片上的缺陷的機(jī)械手其特征在于,包括:
關(guān)聯(lián)單元,使缺陷類型分別與各裝置組相關(guān)聯(lián),其中,所述裝置組包括機(jī)械手組和生產(chǎn)機(jī)臺(tái)組;
掃描單元,對(duì)晶片進(jìn)行掃描并生成缺陷數(shù)據(jù);
缺陷判斷單元,基于規(guī)定缺陷數(shù)據(jù)判斷所述晶片是否存在缺陷;
組別判斷單元,判斷所述缺陷的缺陷類型;
報(bào)警單元,用于向所述裝置組發(fā)出警報(bào);
缺陷處理單元,對(duì)報(bào)警的所述裝置組進(jìn)行處理。
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
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H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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