[發明專利]透光單銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法

無效

• 申請號: 201110381757.6
• 申請日: 2011-11-25
• 公開（公告）號: CN102501450A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 林嘉宏
• 申請（專利權）人: 林嘉宏
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本發明涉及一種鍍膜玻璃，具體是一種透光單銀低輻射鍍膜玻璃及其制造方法。

背景技術

目前市場上普通單銀低輻射鍍膜產品，由于使用金屬膜層作為銀層保護層，往往透光不能做到很高，而且金屬層保護層的存在也使得膜層對光線的吸收增加，使得玻璃看上不夠清澈、通透。

發明內容

本發明的技術目的是解決現有技術中存在的問題，提供一種清澈、通透的低輻射鍍膜玻璃及其制造方法。

本發明的技術方案是：

一種透光單銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜膜層，其特征在于：

以玻璃基板為基礎，所述鍍膜膜層自內向外依次包括第一電介質層、第二電介質層、銀層、第三電介質層、第四電介質層及第五電介質層；

其中，第三電介質層為AZO層，該膜層的作用是保護銀層不被氧化，并且提高銀層和其它膜層的附著力；

進一步的技術方案還包括：

第一電介質層為NbOx層，根據鍍膜工藝條件設定的不同，鍍膜最終形成的材料為鈮氧化物中的一種。該鍍層的作用是阻止玻璃中的Na⁺向膜層中滲透，提高膜層透過率，能夠有效增加膜層和玻璃基片之間的吸附力，并且控制膜系的光學性能和顏色；

第二電介質層為ZnAlOx層，該層對銀層起鋪墊作用，銀層在其上可以更好地成膜，并且保護銀層不被氧化；

銀層的材料為Ag，用于降低輻射率，達到隔熱、保溫的效果；

第四電介質層為ZnSnO₃層，該膜層保護整個膜層結構，減少氧化，提高膜層的物理和化學性能，并且控制膜系的光學性能和顏色。

第五電介質層的材料為Si₃N₄層，該膜層的作用是在銀層和電介質層之間提供吸附力，保護整個膜層結構，減少氧化，提高膜層的物理和化學性能，并且控制膜系的光學性能和顏色。

一種用于生產上述透光單銀低輻射鍍膜玻璃的方法，其特征在于，所述玻璃基板上的鍍膜膜層采用真空磁控濺射鍍膜，包括以下步驟：

步驟一、清洗干燥玻璃基板；

步驟二、進行預真空過渡；

步驟三、在玻璃基板上依次鍍制第一電介質層、第二電介質層、銀層、第三電介質層、第四電介質層、第五電介質層；

所述第三電介質層通過旋轉交流陰極的AZO靶在純氬或氧、氬氛圍中濺射鍍膜；

進一步的技術方案還包括：

所述第一電介質層通過旋轉交流陰極的陶瓷氧化鈮靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜；

所述第二電介質層通過旋轉交流陰極的鋅鋁靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜，其中質量比Zn∶Al＝98∶2；

所述銀層通過直流平面陰極的銀靶在氬氣氛圍中濺射；

所述第四電介質層通過旋轉交流陰極的鋅錫靶在氧、氬氛圍中濺射鍍膜，其中質量比Zn∶Sn＝50∶50；

所述第五電介質層通過旋轉交流陰極的硅鋁靶在氮、氬氛圍中濺射鍍膜，其中質量比Si∶Al＝92∶8；

作為優選方案，在鍍膜第一電介質層時，氧氣與氬氣的體積比設為1∶10；

鍍膜第二電解質層，氧氣與氬氣的體積比設為9∶14；

鍍膜第三電解質層，氧氣與氬氣的體積比設為9∶100；

鍍膜第四電解質層，氧氣與氬氣的體積比設為3∶2；

鍍膜第五電解質層，氮氣與氬氣的體積比設為2∶1。

本發明生產的產品由于使用了陶瓷材料AZO作為銀層后電介質層，取代了現有產品中的金屬保護層，并且使用高折射率的新型材料來抵消銀層的吸收，所以使得本發明產品的透光可以達到和同厚度玻璃原板一樣，甚至更高的透過率，并且產品外觀清澈、通透，還可以保證良好的隔熱、保溫效果，符合消費者追求自然環保的需求。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖；

圖2是本發明的流程示意圖。

具體實施方式

為了闡明本發明的技術方案及技術目的，下面結合附圖及具體實施方式對本發明做進一步的介紹。

如圖所示，一種透光單銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和鍍在玻璃基板上的鍍膜膜層，以玻璃基板為基礎，所述鍍膜膜層自內向外依次包括第一電介質層、第二電介質層、銀層、第三電介質層、第四電介質層及第五電介質層；

其中，第一電介質層為NbOx層，通過旋轉交流陰極的陶瓷氧化鈮靶在氧氬氛圍中濺射鍍膜，氧氣與氬氣的體積比為1∶10；