[發明專利]用于透射顯微鏡和掃描顯微鏡的鎳箔網及其制作方法

有效

• 申請號: 201110375334.3
• 申請日: 2011-11-23
• 公開（公告）號: CN103137406A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發明（設計）人: 張繼明;田連建
• 申請（專利權）人: 北京新興百瑞技術有限公司
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01J9/00
• 代理公司: 北京乾誠五洲知識產權代理有限責任公司 11042
• 代理人: 付曉青;楊玉榮

1.一種用于透射顯微鏡和掃描顯微鏡的鎳箔網，其特征在于，所述鎳箔網的厚度為0.01mm～0.05mm，網孔的孔數為1目～600目。

2.如權利要求1所述的鎳箔網，其特征在于，所述網孔形狀為方形、圓形、蜂窩形或條形。

3.如權利要求1所述的鎳箔網，其特征在于，所述鎳箔網的外徑為3mm～3.05mm。

4.一種如權利要求1～3任一所述鎳箔網的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括如下步驟：

(1)繪圖：將鎳網制成圖紙進行拍照并得到黑白底片；

(2)鎳箔處理：將鎳箔的表面采用普通去油劑進行清洗、烘干；

(3)涂膠：使用常規的紫外負型光刻膠和負膠稀釋劑將烘干后的鎳箔采用旋轉涂布法進行涂膠；

(4)前烘烤：在溫度為90～115度下通過對流烘箱對光刻膠后的鎳箔進行前烘烤；

(5)曝光：采用高壓汞燈對前烘烤后的鎳箔進行紫外線曝光30秒～60秒；

(6)顯影：使用常規的負膠顯影劑對曝光后的鎳箔進行顯影；

(7)漂洗：使用常規的負膠漂洗劑立即對顯影后的鎳箔進行漂洗；

(8)后烘烤：在溫度為150～180度下通過對流烘箱對漂洗后的鎳箔進行后烘烤；

(9)刻蝕：在電流密度為1-25A/平方厘米和電壓為3-15V下使用腐蝕液對后烘烤后的鎳箔進行注入刻蝕；和

(10)去膠：使用負膠去膜劑對刻蝕后的鎳箔網進行去膠。

5.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述前烘烤的時間為5～20分鐘，所述后烘烤的時間為5分鐘。

6.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，在進行涂膠過程時，控制旋轉轉速在1000～4500rpm，以使得涂膠厚度不超過1.5微米。

7.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述腐蝕液為磷酸和水，所述腐蝕液溫度為10～70℃。

8.如權利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述磷酸為700ml～1000ml，水為200ml～300ml。

9.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述負膠去膜劑的浸泡溫度為60～90℃，浸泡時間為10～20分鐘。

10.如權利要求1～9任一所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法適用于不銹鋼網。