[發明專利]完成小線距的導線制作方法無效
| 申請號： | 201110369499.X | 申請日： | 2011-11-18 |
| 公開（公告）號： | CN102402138A | 公開（公告）日： | 2012-04-04 |
| 發明（設計）人： | 薛景峰;許哲豪 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 歐陽啟明 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 完成 小線距 導線 制作方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種完成小線距的導線制作方法，其特征在于：所述導線制作方法包含下列步驟：
S1：提供一導體層；
S2：涂布一光阻層于所述導體層上；
S3：對所述光阻層進行曝光顯影處理；
S4：對所述光阻層進行灰化處理，以去除對應曝光區域的殘留光阻而圖案化所述光阻層；以及
S5：對所述導體層進行蝕刻處理并去除所述圖案化光阻層，以形成導線。
2.如權利要求1所述的完成小線距的導線制作方法，其特征在于：
步驟S3進一步包含下列步驟：
通過光罩對所述光阻層進行局部曝光；以及
對所述光阻層進行顯影處理，以初步去除所述光阻層對應曝光區域的部份。
3.如權利要求1所述的完成小線距的導線制作方法，其特征在于：
所述光罩具有寬度小于曝光機解析力的隙縫。
4.如權利要求1所述的完成小線距的導線制作方法，其特征在于：
所述導體層為銦錫氧化層或是金屬層。
5.如權利要求1所述的完成小線距的導線制作方法，其特征在于：
所述灰化處理是利用加熱或激光照射的方式使光阻層碳化揮發以去除所述殘留光阻。
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