[發明專利]液晶用的取向膜制造方法、液晶元件的制造方法、液晶用的取向膜制造裝置、液晶元件

有效

• 申請號: 201110369444.9
• 申請日: 2011-11-18
• 公開（公告）號: CN102478734A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 都甲康夫;工藤幸寬;高橋泰樹
• 申請（專利權）人: 斯坦雷電氣株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1333
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;張志楠

1.一種液晶用的取向膜制造方法，該方法用于在基板上制造液晶用的取向膜，該方法包括以下工序：

第1工序，以在第1材料液與上述基板之間提供相對電位差的狀態放出上述第1材料液，從而使上述第1材料液形成霧狀而散布于上述基板上；

第2工序，以在第2材料液與上述基板之間提供相對電位差的狀態放出上述第2材料液，從而使上述第2材料液形成霧狀而散布于上述基板上；和

第3工序，使散布于上述基板上的上述第1材料液和上述第2材料液固化。

2.如權利要求1所述的液晶用的取向膜制造方法，其中，使所述第1材料液和所述第2材料液之中的任一者含有垂直取向材料，另一者含有水平取向材料。

3.如權利要求1或2所述的液晶用的取向膜制造方法，其中，在將所述第1工序和所述第2工序重復2次以上后實行所述第3工序。

4.如權利要求3所述的液晶用的取向膜制造方法，其中，所述第1工序中的所述第1材料液的散布量和所述第2工序中的所述第2材料液的散布量分別隨著所述第1工序和所述第2工序的重復次數的增加而遞減。

5.一種液晶元件的制造方法，其包括以下工序：

在第1基板的一個面上形成取向膜的取向膜形成工序；

使所述第1基板和第2基板對置的基板配置工序；和

在所述第1基板與所述第2基板之間形成液晶層的液晶層形成工序，

所述取向膜形成工序使用權利要求1～4的任一項所述的取向膜制造方法來形成所述取向膜。

6.一種液晶用的取向膜制造裝置，其包括以下裝置：

第1噴射裝置，其使第1材料液形成霧狀而進行噴霧；

第2噴射裝置，其與所述第1噴射裝置相鄰配置，使第2材料液形成霧狀而進行噴霧；

基板托，其保持基板，使該基板的一個面朝向所述第1噴射裝置和所述第2噴射裝置的各自的噴射方向；和

電壓施加裝置，其與所述第1噴射裝置和所述第2噴射裝置分別連接，在所述第1材料液和所述第2材料液的任一者與所述基板之間選擇性地施加電壓。

7.一種液晶元件，其包括：

對置的第1基板和第2基板；

至少設置于所述第1基板的一個面上的取向膜；和

設置于所述第1基板與所述第2基板之間的液晶層，

所述取向膜中，兩種以上的取向膜片不規則地分散于所述第1基板的一個面上，且該兩種以上的取向膜片在所述第1基板的板厚方向上不規則地堆積。