[發明專利]一種雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構

無效

• 申請號: 201110369308.X
• 申請日: 2011-11-18
• 公開（公告）號: CN103122456A
• 公開（公告）日: 2013-05-29
• 發明（設計）人: 王麗丹;梁學敏;劉憶軍
• 申請（專利權）人: 沈陽拓荊科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

1.一種雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：包括混氣室(1)、氣體入口管路、氣體出口管路及進氣擋板(6)，其中混氣室(1)底面分別連接有第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)，所述第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)的上方設有安裝在混氣室(1)底面上的進氣擋板(6)，第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)的入口均位于所述進氣擋板(6)的下方；所述氣體出口管路為至少兩個，對稱連接在混氣室(1)相對的兩側面。

2.按權利要求1所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述混氣室(1)為水平剖分結構，分為混氣室上半部分(11)及混氣室下半部分(12)，中間通過密封膠圈(13)密封。

3.按權利要求2所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)安裝在混氣室下半部分(12)的底面上，第一氣體入口管路(4)距混氣室(1)一側面的距離與第二氣體入口管路(5)距混氣室(1)另一側面的距離相等。

4.按權利要求3所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)的中心軸線相平行，且均與混氣室下半部分(12)底面的中心基準面共面。

5.按權利要求2所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述混氣室下半部分(12)的底面上向上延伸形成凸起，所述進氣擋板(6)固接在該凸起上，進氣擋板(6)與第一氣體入口管路(4)及第二氣體入口管路(5)之間的間隙為氣體初步混合區。

6.按權利要求2所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述氣體出口管路安裝在混氣室下半部分(12)相對的兩側面上或安裝在混氣室下半部分(12)軸向截面的兩側，兩側面或軸向截面的兩側上的氣體出口管路位于同一高度；氣體出口管路為兩個時，對稱設置在混氣室下半部分(12)相對的兩側面上或對稱設置在混氣室下半部分(12)軸向截面的兩側；氣體出口管路為兩個以上時，在混氣室下半部分(12)相對的兩側面上或混氣室下半部分(12)軸向截面的兩側均布。

7.按權利要求1或2所述雙腔室或多腔室薄膜沉積設備的氣體混合分配結構，其特征在于：所述混氣室(1)為軸對稱的幾何體。