[發明專利]線光源輻照度分布模擬方法及系統

無效

• 申請號: 201110366319.2
• 申請日: 2011-11-17
• 公開（公告）號: CN102520923A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 周彥宇
• 申請（專利權）人: 廣州合成材料研究院有限公司
• 主分類號: G06F9/44
• 分類號: G06F9/44;G06F19/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 譚英強

技術領域

本發明涉及光源技術領域，特別是涉及線光源輻照度分布模擬方法及系統。

背景技術

長弧氣體燈可近似視為線光源，在以長弧氣體燈為光源的設備中輻照度分布是一個重要指標。采用實測的方法來研究其輻照度分布不太可行，因為長弧氣體燈系統比較復雜，其中涉及到觸發、恒功率控制、調光、測光、冷卻等諸多環節，如果是多燈系統，其復雜程度則成比例增加。另外，觸發時，需要幾萬伏的高壓，有一定的危險性；系統工作時，水電的消耗量都比較大。因此，如果用軟件模擬的方法來研究其輻照度分布，可以大大降低復雜性、加快研究速度、降低危險性、減少能耗。

目前沒有發現現成的模擬軟件能夠簡明直觀地模擬多個線光源的輻照度分布，因此迫切需要一個軟件能模擬單個或多個線光源的輻照度分布，并直觀的顯示出來，同時各個線光源的強度、尺寸、位置均可靈活調整。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種可以簡單快捷地得出線光源輻照度分布模擬的方法。

本發明的另一個目的是提供一種線光源輻照度分布模擬系統。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

線光源輻照度分布模擬方法，包括以下步驟：

A、設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標；

B、設置樣品長度、位置坐標；

C、根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；

D、繪制并顯示輻照度分布圖。

進一步，還包括以下步驟：

E、顯示任一鼠標光標所在點的輻照度數據；

F、統計樣品受光面上的輻照度平均值、不均勻度、最大值和最小值。

進一步，所述步驟A中所有線光源位于同一平面內，且平行或共線。

進一步，所述輻照度分布圖可以是等輻照度線或漸變圖。

進一步，所述線光源位置坐標與樣品位置坐標由X坐標和Y坐標組合表示，輻照度分布圖中設有X，Y垂直坐標系，X坐標表示距離Y軸的值，Y坐標表示距離X軸的值。

進一步，所述步驟C中不考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為：

單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為

e1=∫0LΦ4πL·1(a-x)2+b2dx]]>

=Φ4πbL·(arctgL-ab+arctgab)]]>

其中，線光源位于X軸上，L為單個線光源長度，Φ為單個線光源輻射通量，x為線光源上任意一點的X坐標，a為樣品受光表面任意一點的X坐標，b為樣品表面任意一點的Y坐標；

多個線光源對樣品表面該點的輻照度為

E₁為代數和，e_1i為任意一個單個線光源對該點的輻照度。

進一步，所述步驟C中考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為：

單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為