[發明專利]線光源輻照度分布模擬方法及系統無效
| 申請號： | 201110366319.2 | 申請日： | 2011-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN102520923A | 公開（公告）日： | 2012-06-27 |
| 發明（設計）人： | 周彥宇 | 申請（專利權）人： | 廣州合成材料研究院有限公司 |
| 主分類號： | G06F9/44 | 分類號： | G06F9/44;G06F19/00 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 譚英強 |
| 地址： | 510665 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光源 輻照 分布 模擬 方法 系統 | ||
1.線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：包括以下步驟：
A、設置線光源的數量、輻射功率、發光長度、位置坐標；
B、設置樣品長度、位置坐標；
C、根據實際需要選擇數學模型，然后根據相應的線光源輻照度公式計算得出輻照度分布數據；
D、繪制并顯示輻照度分布圖。
2.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：還包括以下步驟：
E、顯示任一鼠標光標所在點的輻照度數據；
F、統計樣品受光面上的輻照度平均值、不均勻度、最大值和最小值。
3.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：所述步驟A中所有線光源位于同一平面內，且平行或共線。
4.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：所述輻照度分布圖可以是等輻照度線或漸變圖。
5.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：所述線光源位置坐標與樣品位置坐標由X坐標和Y坐標組合表示，輻照度分布圖中設有X，Y垂直坐標系，X坐標表示距離Y軸的值，Y坐標表示距離X軸的值。
6.根據權利要求1所述的線光源輻照度分布模擬方法，其特征在于：所述步驟C中不考慮受光角度影響下，線光源輻照度公式為：
單個線光源對樣品受光表面任意一點的輻照度為
其中，線光源位于X軸上，L為單個線光源長度，Φ為單個線光源輻射通量，x為線光源上任意一點的X坐標，a為樣品受光表面任意一點的X坐標，b為樣品表面任意一點的Y坐標；
多個線光源對樣品表面該點的輻照度為
E1為代數和，e1i為任意一個單個線光源對該點的輻照度。
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