[發(fā)明專利]一種高Tg、無鹵素板用銅箔的表面處理工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110366082.8 | 申請日: | 2011-11-18 |
| 公開(公告)號: | CN102418129A | 公開(公告)日: | 2012-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊祥魁;劉建廣;馬學武;宋召霞;徐策;考松波;冷新宇 | 申請(專利權(quán))人: | 山東金寶電子股份有限公司 |
| 主分類號: | C25D7/06 | 分類號: | C25D7/06;C25D5/10;C25D5/48;C25D11/02 |
| 代理公司: | 煙臺雙聯(lián)專利事務(wù)所(普通合伙) 37225 | 代理人: | 矯智蘭 |
| 地址: | 265400 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 tg 鹵素 銅箔 表面 處理 工藝 | ||
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技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種高Tg、無鹵素板用銅箔的表面處理工藝,屬于高精電解銅箔生產(chǎn)工藝技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
電子銅箔是制造CCL(銅箔基板)及PCB(印刷電路板)的重要基礎(chǔ)原材料。近年來,世界各種電子信息產(chǎn)品技術(shù)得到高速發(fā)展,推動了PCB朝著多層化、薄型化、高密度化的新進展。電子信息產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展的今天,銅箔早已被形象的喻為電子產(chǎn)品信號與電力傳輸、溝通的“神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)”。電子信息產(chǎn)品的發(fā)展對CCL及PCB提出高要求的同時,也對銅箔的性能、環(huán)保等諸方面提出了更嚴格的要求。
PCB技術(shù)的飛速發(fā)展,很多環(huán)境、條件、方法已經(jīng)不同于過去,技術(shù)的進步給材料應(yīng)用帶來一系列要求。例如,微小孔加工時,為了獲得良好的孔壁質(zhì)量,PCB制程采用更快的鉆孔速度,會帶來孔壁過熱問題;多層板反復(fù)壓合,由于基材與銅箔膨脹系數(shù)存在差異,可能會造成線路銅裂;板材加工過程中熱風整平,以及元件焊接被無鉛焊接工藝取代,經(jīng)過多次熱沖擊后,易出現(xiàn)孔壁拐角銅裂及孔壁收縮等問題;高密度安裝技術(shù)條件下,板材的尺寸穩(wěn)定問題;環(huán)境安全對鹵素阻燃劑的限制。鑒于此,各CCL廠致力于提高板材的耐熱性,并降低CTE(膨脹系數(shù))和無鹵化。往往會采用高耐熱性的高分子固化劑,配合多官能團樹脂改性的環(huán)氧樹脂使板材具有高Tg(玻璃化溫度)和耐熱性;另外添加適量的無機填料(常用硅微粉),來降低膨脹系數(shù);使用無機阻燃劑(常用氫氧化鋁)來替代鹵素。在追求其高Tg、低CTE、無鹵素的同時,使得基材樹脂對銅箔的接合力降低,一般的FR-4上35μm(1OZ)銅箔的PS能夠達到2.0N/mm(11.4?lbf/in),而Tg值在150左右的Halogen-free板上的PS值只能達到1.4?N/mm(8?lbf/in)左右。目前,國內(nèi)銅箔的技術(shù)水平,大都能夠滿足中Tg?的無鹵素板材使用水平,而應(yīng)用在Tg170以上的板材,PS值還是不夠,其技術(shù)難點在于低Rz的毛箔,山峰均勻而尖瑞,表面處理的粗化層向山谷生長,并具有良好的耐熱性和環(huán)境友好特征。
電解銅箔的表面處理顏色,通常有紅化、灰化和黑化三種代表色。其中黑化銅箔常用于FPC(柔性電路板)和EMI(電磁屏蔽,用于等離子電視(PDP),防止電磁輻射對人體傷害),對于占有CCL?90%以上市場的FR-4板來講,板材的High?Tg和Halogen-free十分普及,紅化銅箔成為市場的主流,并有逐漸取代灰化銅箔的趨勢。由于High?Tg和Halogen-free板用銅箔長期依賴國外進口,而這些進口的銅箔具有較深的壓板背色以適應(yīng)PCB生產(chǎn)時的AOI檢測,在CCL和PCB生產(chǎn)商的思維中形成了特定的顏色需求。
發(fā)明內(nèi)容
????本發(fā)明的目的在于提供一種高Tg、無鹵素板用電解銅箔的表面處理工藝,旨在解決高Tg(Tg170)和無鹵素板用紅化銅箔的抗剝離強度,壓板背色和環(huán)境友好問題。
????本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種高Tg、無鹵素板用銅箔的表面處理工藝,其特殊之處在于
采用35μm?HTE電解銅箔做陰極并以20m/min的速度運行,經(jīng)過酸洗-粗化-固化-黑化-鍍鋅-鈍化-硅烷處理-烘干的工藝步驟對銅箔的毛面進行粗化層處理。本發(fā)明是通過在粗化步驟中使用特殊的的混合添加劑,來改變粗化層結(jié)構(gòu)形態(tài),以達到提高抗剝離強度的目的。本發(fā)明的黑化步驟,采用超低濃度鹽的溶液,電鍍納米超微細鎳鋅合金技術(shù)來替代傳統(tǒng)的有砷黑化的阻擋層作用。本發(fā)明采用三價鉻鈍化處理技術(shù),避免了當前生產(chǎn)中的六價鉻對環(huán)境和人體的危害。
本發(fā)明的具體處理步驟如下:
????1、酸洗:將電解銅箔浸入硫酸溶液中,以清除銅箔表面的氧化層;其中H2SO4??100-200?g/L,溫度25-40?℃,處理時間?4-5s;
????2、粗化:將陰極銅、濃硫酸、軟水、蒸汽混合溶解,生成硫酸銅溶液,再向硫酸銅溶液中加入添加劑T,混合充分后進入粗化槽進行電鍍;其中Cu2+?10-25g/L,H2SO4?80-220g/L,添加劑T?5-150mg/L,溫度20-35℃,電流密度20-50A/dm2,處理時間2-15s;
所述添加劑T?是一種混合添加劑,選自于鄰菲羅啉、氯苯基吖啶、硫脲、糖精鈉、鉬酸鈉、鎢酸鈉、硫酸亞錫、硫酸亞鐵、硫酸鈷、硫酸鈦中的兩種或多種;
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