[發明專利]一種光刻技術用防塵薄膜組件無效
| 申請號： | 201110365311.4 | 申請日： | 2011-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN102466964A | 公開（公告）日： | 2012-05-23 |
| 發明（設計）人： | 白崎享 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 技術 防塵 薄膜 組件 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻技術用防塵薄膜組件，其特征在于：在防塵薄膜組件框架的一個端面，借助粘合劑層繃緊貼附有防塵薄膜，而在另一端面設有粘著劑層，該粘著劑層的光掩模貼附面為平坦面，并且粘著劑層的粘著力在1N/m至100N/m的范圍之內。
2.權利要求1所述的光刻技術用防塵薄膜組件，其中粘著劑層的粘著力在4N/m至80N/m的范圍之內。
3.權利要求1或2所述的光刻技術用防塵薄膜組件，其中，上述粘著劑層的光掩模貼附表面的平坦度為15μm以下。
4.權利要求1或2或3所述的光刻技術用防塵薄膜組件，其中，貼附有防塵薄膜的前述粘合劑層表面的平坦度為15μm以下。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
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