[發明專利]鍍膜件及其制造方法

無效

• 申請號: 201110365225.3
• 申請日: 2011-11-17
• 公開（公告）號: CN103114287A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 張新倍;蔣煥梧;陳正士;李聰
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C28/04
• 分類號: C23C28/04;C25D11/04;C25D11/18;C23C14/08;C23C14/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜件及其制造方法。

背景技術

現有技術，采用陽極氧化處理的方式在鋁或鋁合金表面形成一陽極氧化膜，在一定程度上可改善鋁或鋁合金基體的硬度、耐磨性、耐腐蝕性及裝飾性，但陽極氧化膜存在表面粗糙、暗啞的缺點。

采用噴涂的方式于陽極氧化膜上噴涂一透明油漆層，可改善陽極氧化處理產品表面的觸感，但噴涂過程中容易產生積漆、油漆層厚度不均等不良現象。用真空鍍膜方式代替噴涂形成一透明狀的真空鍍膜層可解決上述技術問題，但由于陽極氧化膜與真空鍍膜層之間存在較大的內應力，易于導致膜層發生開裂、剝落等現象。

發明內容

鑒于此，本發明提供一種可解決上述問題的鍍膜件。

另外，本發明還提供一種上述鍍膜件的制造方法。

一種鍍膜件，包括基體、依次形成于基體表面的陽極氧化膜及真空鍍膜層，所述陽極氧化膜表面呈不連續狀，所述真空鍍膜層為二氧化硅層或氧化鋁層。

一種鍍膜件的制造方法，其包括如下步驟：

提供基體；

通過陽極氧化處理的方式，在該基體的表面形成陽極氧化膜；

對所述陽極氧化膜表面進行鹽酸水溶液擦拭處理；

采用真空鍍膜法，以硅靶或鋁靶為靶材，以氧氣為反應氣體，在經上述處理后的陽極氧化膜上形成真空鍍膜層，該真空鍍膜層為二氧化硅層或氧化鋁層。

本發明對所述陽極氧化膜進行鹽酸水溶液擦拭處理，使所述陽極氧化膜表面呈不連續狀，進而可提高所述真空鍍膜層與陽極氧化膜之間的結合力，進而避免所述陽極氧化膜與真空鍍膜層直接結合而導致真空鍍膜層發生開裂、剝落等現象。另外，所述真空鍍膜層本身具有良好的硬度及耐磨性，可增強所述鍍膜件的硬度及耐磨性。

附圖說明

圖1是本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；

圖2是本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜件10基體11陽極氧化膜13凸起131真空鍍膜層15

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施例的鍍膜件10包括基體11、依次形成于基體11上的陽極氧化膜13及真空鍍膜層15。該鍍膜件10可以為電子裝置外殼，也可以為鐘表外殼、金屬衛浴件、建筑用件及汽車零部件。

所述基體11的材質為可為鋁、鋁合金、鎂、鎂合金或其它可以進行陽極氧化處理的金屬。

所述陽極氧化膜13表面形成有若干凸起131。所述陽極氧化膜13的表面的部分區域形成有氯化鋁。

所述真空鍍膜層15用以提高所述鍍膜件10的硬度及耐磨性。所述真空鍍膜層15為二氧化硅（SiO₂）層或氧化鋁（Al₂O₃）層。所述真空鍍膜層15為無色透明狀，其厚度為1~1.8μm。

本發明鍍膜件10的制造方法包括以下步驟：

提供基體11，該基體11的材質為可為鋁、鋁合金、鎂、鎂合金或其它可以進行陽極氧化處理的金屬。

將基體11進行預處理。該預處理包括分別用去離子水和無水乙醇對基體11表面進行擦拭、以及用丙酮溶液對基體11進行超聲波清洗等步驟。