[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及顯示用面板基板的制造方法

無效

• 申請號: 201110356087.2
• 申請日: 2011-11-08
• 公開（公告）號: CN102540755A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 手冢秀和;林知明;吉田稔
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高科技
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/77
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置、曝光方法以及使用所述曝光裝置及曝光方法的顯示用面板(panel)基板的制造方法，所述曝光裝置在液晶顯示(display)裝置等的顯示用面板基板的制造過程中，將光束(beam)照射至涂布有光刻膠(photoresist)的基板，借由光束來對基板進行掃描，在基板上描繪出圖案(pattern)，本發明特別涉及如下的曝光裝置、曝光方法以及使用所述曝光裝置及曝光方法的顯示用面板基板的制造方法，所述曝光裝置使用多個光束照射裝置，借由多條光束來對基板進行掃描。

背景技術

使用曝光裝置，借由光刻(photolithography)技術在基板上形成圖案，從而制造出被用作顯示用面板的液晶顯示裝置的薄膜晶體管(Thin?FilmTransistor，TFT)基板或彩色濾光片(color?filter)基板、等離子顯示(plasma?display)面板用基板、以及有機電致發光(Electroluminescence，EL)顯示面板用基板等。作為曝光裝置，以往，已有投影(projection)方式的曝光裝置與接近(proximity)方式的曝光裝置，所述投影方式的曝光裝置是使用透鏡(lens)或鏡子來將光罩(mask)的圖案投影至基板上，所述接近方式的曝光裝置是在光罩與基板之間設置微小的間隙(接近間隙(proximity?gap))，將光罩的圖案轉印至基板。

近年來，已開發出如下的曝光裝置，該曝光裝置是將光束照射至涂布有光刻膠的基板，借由光束來對基板進行掃描，從而在基板上描繪出圖案。借由光束來對基板進行掃描，從而直接在基板上描繪出圖案，因此，無需昂貴的光罩。另外，可借由將描繪數據(data)以及掃描的程序(program)予以變更來對應于各種類型的顯示用面板基板。作為此種曝光裝置，例如已有專利文獻1、專利文獻2、以及專利文獻3所揭示的曝光裝置。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2010-44318號公報

[專利文獻2]日本專利特開2010-60990號公報

[專利文獻3]日本專利特開2010-102084號公報

當借由光束在基板上描繪出圖案時，使用數字微鏡器件(DigitalMicromirror?Device，DMD)等的空間光調制器(spatial?light?modulator)來對光束進行調制。DMD是將對光束進行反射的多個微小的面鏡(mirror)排列于正交的兩個方向而構成，驅動電路基于描繪數據來將各面鏡的角度予以變更，借此，對照明光學系統所供給的光束進行調制。經空間光調制器調制的光束從光束照射裝置的包括投影透鏡的照射光學系統向基板照射。

在液晶顯示裝置等的顯示用面板基板的制造過程中，由于曝光區域廣闊，因此，若使用一個光束照射裝置，且借由一條光束來對整個基板進行掃描，則對于整個基板的掃描會耗費時間，工作時間(tact?time)變長。為了使工作時間縮短，必須使用多個光束照射裝置，且借由多條光束來并行地對基板進行掃描。

DMD的面鏡的動作角度存在由每個DMD的公差所引起的不均。若DMD的面鏡的動作角度不同，則經DMD的面鏡反射且透過投影透鏡等的照射光學系統的光束的光路會偏移，光束的衍射光的強度分布會發生變化。當使用多個光束照射裝置，且借由多條光束來對基板進行掃描時，存在如下的問題，即，若從各光束照射裝置向基板照射的光束的衍射光的強度分布存在不均，則解析性能會不均，無法均一地描繪出圖案，描繪品質會下降。

發明內容

本發明的課題在于：當借由來自多個光束照射裝置的多條光束來對基板進行掃描，在基板上描繪出圖案時，對光束的衍射光的強度分布的不均進行修正，從而使描繪品質提高，所述光束的衍射光的強度分布的不均是由空間光調制器的面鏡的動作角度的不均引起。另外，本發明的課題在于：制造高品質的顯示用面板基板。