[發(fā)明專利]曝光裝置、曝光方法以及顯示用面板基板的制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110356087.2
• 申請(qǐng)日: 2011-11-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102540755A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 手冢秀和;林知明;吉田稔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立高科技
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H01L21/77
• 代理公司: 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種曝光裝置，包括：

夾具，支撐著涂布有光刻膠的基板；

多個(gè)光束照射裝置，具有供給光束的照明光學(xué)系統(tǒng)、空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路、及照射光學(xué)系統(tǒng)，所述空間光調(diào)制器將排列于兩個(gè)方向的多個(gè)面鏡的角度予以變更，從而對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于描繪數(shù)據(jù)來(lái)將所述空間光調(diào)制器予以驅(qū)動(dòng)，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射出經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制的光束；以及

移動(dòng)單元，使所述夾具與所述多個(gè)光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，

借由所述移動(dòng)單元來(lái)使所述夾具與所述多個(gè)光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，借由來(lái)自所述多個(gè)光束照射裝置的多條光束來(lái)對(duì)基板進(jìn)行掃描，在所述基板上描繪出圖案，所述曝光裝置的特征在于：

各光束照射裝置包括調(diào)節(jié)單元，該調(diào)節(jié)單元根據(jù)所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器的面鏡的動(dòng)作角度的不均，對(duì)向所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器供給的光束的入射角度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：其中

所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)包括面鏡，該面鏡使光束反射，將反射光供給至所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器，

所述各光束照射裝置的所述調(diào)節(jié)單元包括：第一單元，根據(jù)所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器的所述面鏡的動(dòng)作角度的不均，將所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡的角度予以變更；以及第二單元，根據(jù)所述面鏡的角度來(lái)將所述面鏡的位置予以變更。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于：其中

所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)包括光學(xué)零件，該光學(xué)零件使光束匯聚，接著將該光束供給至所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡，

所述第二單元根據(jù)所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡的角度，使所述各光束照射裝置的整個(gè)所述照明光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)，將所述面鏡的位置予以變更。

4.一種曝光方法，

利用夾具來(lái)支撐著涂布有光刻膠的基板，

使夾具與多個(gè)光束照射裝置相對(duì)地移動(dòng)，所述多個(gè)光束照射裝置包括：供給光束的照明光學(xué)系統(tǒng)、空間光調(diào)制器、驅(qū)動(dòng)電路、以及照射光學(xué)系統(tǒng)，所述空間光調(diào)制器將排列于兩個(gè)方向的多個(gè)面鏡的角度予以變更，從而對(duì)光束進(jìn)行調(diào)制，所述驅(qū)動(dòng)電路基于描繪數(shù)據(jù)來(lái)將所述空間光調(diào)制器予以驅(qū)動(dòng)，所述照射光學(xué)系統(tǒng)照射出經(jīng)所述空間光調(diào)制器調(diào)制的光束，

借由來(lái)自所述多個(gè)光束照射裝置的多條光束來(lái)對(duì)基板進(jìn)行掃描，在所述基板上描繪出圖案，所述曝光方法的特征在于：

根據(jù)各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器的面鏡的動(dòng)作角度的不均，對(duì)向所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器供給的光束的入射角度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光方法，其特征在于：其中

在所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)中，利用所述面鏡來(lái)使光束反射，將反射光供給至所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器，

根據(jù)所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器的所述面鏡的動(dòng)作角度的不均，將所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡的角度予以變更，且根據(jù)所述面鏡的角度來(lái)將所述面鏡的位置予以變更，對(duì)向所述各光束照射裝置的所述空間光調(diào)制器供給的光束的入射角度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其特征在于：其中

在所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)中，利用光學(xué)零件來(lái)使光束匯聚，接著將該光束供給至所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡，

根據(jù)所述各光束照射裝置的所述照明光學(xué)系統(tǒng)的所述面鏡的角度，使所述各光束照射裝置的整個(gè)所述照明光學(xué)系統(tǒng)移動(dòng)，將所述面鏡的位置予以變更。

7.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置來(lái)對(duì)基板進(jìn)行曝光。

8.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于：

使用根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的曝光方法來(lái)對(duì)基板進(jìn)行曝光。