[發明專利]一種埃博霉素D分子印跡聚合物及其制備方法

有效

• 申請號: 201110346092.5
• 申請日: 2011-11-04
• 公開（公告）號: CN102504100A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 龔國利;賈琳;李慧
• 申請（專利權）人: 陜西科技大學
• 主分類號: C08F222/14
• 分類號: C08F222/14;C08F220/14;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;B01J20/34
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種埃博霉素D分子印跡聚合物，其特征在于，是由甲基丙烯酸甲酯與乙二醇二甲基丙烯酸酯按照1∶2～5的摩爾比交聯形成的具有疏松表面的高分子材料，對埃博霉素D具有特異性吸附；

該分子印跡聚合物吸附埃博霉素D后，通過在乙酸∶甲醇體積比為1∶8～3∶7的溶液中浸提，脫去埃博霉素D。

2.如權利要求1所述的埃博霉素D分子印跡聚合物，其特征在于，所述的埃博霉素D分子印跡聚合物為具有多孔結構形態的疏松球狀聚合物。

3.如權利要求1所述的埃博霉素D分子印跡聚合物，其特征在于，所述的交聯是由引發劑偶氮二異丁腈引發的。

4.一種埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)在甲醇中，將埃博霉素D、甲基丙烯酸甲酯和乙二醇二甲基丙烯酸酯按埃博霉素D：甲基丙烯酸甲酯∶乙二醇二甲基丙烯酸酯＝1∶(5～10)∶(15～30)的摩爾比混合均勻，靜置后加入引發劑偶氮二異丁腈，然后通入氮氣20～40min；

2)在氮氣保護條件下，在45～55℃下聚合反應10～20h，再在55～65℃下聚合反應10～20h；

3)聚合反應結束后，過濾，收集聚合反應物；

4)將聚合反應物在乙酸∶甲醇體積比為1∶8～3∶7的溶液中浸提多次脫去埃博霉素D，每次3～10h；再用甲醇浸提聚合反應物2～3次，真空干燥后獲得埃博霉素D分子印跡聚合物。

5.如權利要求4所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，埃博霉素D：甲基丙烯酸甲酯∶乙二醇二甲基丙烯酸酯的摩爾比為1∶(5～6)∶(15～18)。

6.如權利要求4所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，偶氮二異丁腈的加入量為甲基丙烯酸甲酯質量的3～5％。

7.如權利要求1所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，通入氮氣的流速為2～3ml/min。

8.如權利要求4所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述的聚合反應是在水浴環境下進行。

9.如權利要求4所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述的聚合反應物為粒徑5～10μm的聚合物顆粒。

10.如權利要求4所述的埃博霉素D分子印跡聚合物的制備方法，其特征在于，所述的浸提用索氏浸提法來浸提。