[發明專利]用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔

無效

• 申請號: 201110341640.5
• 申請日: 2011-11-03
• 公開（公告）號: CN103084051A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 莊建春
• 申請（專利權）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78;B01D53/40;B01D53/42
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 徐丁峰;汪洋

技術領域

本發明涉及半導體領域，尤其涉及一種用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔。

背景技術

半導體廠房等潔凈室的工藝排氣系統所排放的氣體通常呈酸堿性，如果直接排放到環境中會產生污染，因此，會采用洗滌塔對該酸堿性排氣進行處理。酸堿性排氣經過洗滌塔時與其內的洗滌劑發生化學反應，以去除所包含的酸堿性成分。

洗滌塔內洗滌劑液位的補水和排水等均由液位計聯動控制。大部分廠房的洗滌塔均安裝在室外，長期運行后，洗滌塔內的洗滌劑中會存在大量雜物。此外，為了增大洗滌塔的處理效率，洗滌塔內通常會設置有填料，填料在長期工作后會發生脆化破碎的現象。上述雜物和填料的破碎物等如果進入液位計并且未及時處理的話，可能會造成液位計浮球卡住，而導致液位計無法正確地反應洗滌塔內洗滌劑的液位。其后果是，如果液位過低而不能及時補水，則會嚴重影響洗滌塔的洗滌效果，進而對環境造成不利的影響。

因此，需要一種用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔以解決上述問題。

發明內容

為了克服上述現有技術的不足，本發明提供了一種用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔，所述洗滌塔包括：?

循環洗滌劑箱，所述循環洗滌劑箱的中部設置有多孔的隔板，所述隔板下方的所述循環洗滌劑箱用于收集洗滌劑，所述隔板上設置有用于增大所述酸堿性排氣與所述洗滌劑的接觸面積的填料；

循環泵和循環管路，所述循環泵通過所述循環管路與所述循環洗滌劑箱連接，用于驅動所述洗滌劑循環流動；以及

液位計，所述液位計設置在所述循環洗滌劑箱的下部，并通過連接裝置與所述循環洗滌劑箱連接，所述連接裝置上設置有過濾裝置。

優選地，所述連接裝置包括設置在所述液位計的入口管上的第一法蘭環、設置在所述循環洗滌劑箱的出口管上的第二法蘭環以及用于連接所述第一法蘭環和所述第二法蘭環的連接件。

優選地，所述過濾裝置設置在所述第一法蘭環和所述第二法蘭環之間。

優選地，所述過濾裝置為過濾網。

優選地，所述過濾網是由非金屬材料制成的。

優選地，所述過濾網是由無紡布編織材料制成的。

優選地，所述填料為特拉瑞德環結構的填料。

優選地，所述循環管路在所述循環洗滌劑箱內的入口設置在所述洗滌劑循環箱的頂部，且所述循環管路的入口處設置有噴嘴。

優選地，所述循環洗滌劑箱的前端和后端分別設置有氣體入口和氣體出口，以使所述酸堿性排氣從所述氣體入口進入經由所述填料并從所述氣體出口排出。

根據本發明的用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔不但能夠有效地防止雜物和填料的破碎物等進入液位計而將其損壞，進而避免由于洗滌塔內液位過低而影響洗滌塔的洗滌效果，還具有結構簡單、對半導體廠房的酸堿性排氣處理效果優異等優點。

在發明內容部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在具體實施方式部分中進一步詳細說明。本發明內容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特征和必要技術特征，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護范圍。

以下結合附圖，詳細說明本發明的優點和特征。

附圖說明

本發明的下列附圖在此作為本發明的一部分用于理解本發明。附圖中示出了本發明的實施例及其描述，用來解釋本發明的原理。在附圖中，

圖1是根據本發明一個實施方式的用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔的示意圖；以及

圖2是圖1中區域A的放大視圖。

具體實施方式

在下文的描述中，給出了大量具體的細節以便提供對本發明更為徹底的理解。然而，對于本領域技術人員來說顯而易見的是，本發明可以無需一個或多個這些細節而得以實施。在其他的例子中，為了避免與本發明發生混淆，對于本領域公知的一些技術特征未進行描述。

為了徹底了解本發明，將在下列的描述中提出詳細的結構。顯然，本發明的施行并不限定于本領域的技術人員所熟習的特殊細節。本發明的較佳實施例詳細描述如下，然而除了這些詳細描述外，本發明還可以具有其他實施方式。

圖1是根據本發明一個實施方式的用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔的示意圖。下面將結合圖1對根據本發明的用于半導體廠房的酸堿性排氣的洗滌塔（以下簡稱洗滌塔）進行詳細描述。如圖1所示，洗滌塔100包括循環洗滌劑箱110、循環泵120、循環管路130和液位計140。