[發(fā)明專利]鍍鉻沖模在硫酸氫氯吡格雷片制備過程中的應(yīng)用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110341639.2 | 申請日： | 2011-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN102398378A | 公開（公告）日： | 2012-04-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京華禧聯(lián)合科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號： | B30B15/02 | 分類號： | B30B15/02;A61K9/20;A61K9/30;A61K31/4365;A61P7/02 |
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| 地址： | 102206 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍍鉻 沖模 硫酸 氫氯吡格雷片 制備 過程 中的 應(yīng)用 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種改善硫酸氫氯吡格雷片制備過程中的粘沖現(xiàn)象的沖模，其特征在于：在制備硫酸氫氯吡格雷片過程中采用鍍鉻的壓片機沖模，能很好地改善粘沖現(xiàn)象。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫酸氫氯吡格雷片，其特征在于：制備工藝采用鍍鉻的壓片機沖模。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫酸氫氯吡格雷片，其特征在于：因水分會引起有關(guān)物質(zhì)的增長，制備過程中控制環(huán)境濕度RH25%以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫酸氫氯吡格雷片，其特征在于：因產(chǎn)品對濕熱比較敏感，制備工藝采用粉末直接壓片法或干法制粒壓片法。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硫酸氫氯吡格雷片，其特征在于：處方中采用含水量低的輔料，如微晶纖維素PH112，無水直壓乳糖、甘露醇200SD等。
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