[發明專利]一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法

有效

• 申請號: 201110341049.X
• 申請日: 2011-11-02
• 公開（公告）號: CN102368438A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發明（設計）人: 胡依群;鄭國芳;沈國迪;歐陽習科
• 申請（專利權）人: 寧波韻升高科磁業有限公司;寧波韻升股份有限公司;寧波韻升特種金屬材料有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;C23C18/00
• 代理公司: 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226
• 代理人: 程曉明

技術領域

本發明涉及一種釹鐵硼磁體的防護方法，尤其是涉及一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法。

背景技術

釹鐵硼磁體具有優異的磁性能和很高的性價比，廣泛應用于電子、電機和通信等技術領域；但是釹鐵硼磁體的性質非常活潑，很容易被腐蝕，從而導致生銹、粉化或者失去磁性等問題，極大地限制了釹鐵硼磁體的使用壽命和應用領域；目前主要通過對釹鐵硼磁體的表面進行電鍍處理來提高其防腐蝕性能，電鍍鍍層雖然一定程度上隔離了釹鐵硼磁體與外界環境的接觸，提高了釹鐵硼磁體的耐腐蝕性，但是由于電鍍工藝的局限性，電鍍鍍層或多或少都存在孔隙，而外界環境可以通過這些孔隙與釹鐵硼磁體接觸，從而腐蝕釹鐵硼磁體；尤其是對具有大深徑比(深徑比≥1)的圓孔(內孔直徑≤10mm)結構的釹鐵硼磁體進行電鍍處理時，釹鐵硼磁體的圓孔深處難以形成均勻的電鍍鍍層，且其圓孔深處表面的鍍層很薄，將成為釹鐵硼磁體被腐蝕的突破口，縮短了釹鐵硼磁體表面鍍層的耐腐蝕防護周期；電鍍處理后的具有大深徑比的圓孔結構的釹鐵硼磁體一般只能經受36小時左右的耐中性鹽霧試驗，無法滿足動力電機磁體對耐蝕性和電機運行可靠性的的需求。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種穩定性強、耐腐蝕性強的釹鐵硼磁體的表面復合防護方法，本方法尤其適用于具有圓孔結構的釹鐵硼磁體的表面防護處理。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為：一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法，包括以下步驟：

(1)將具有圓孔結構的釹鐵硼磁體進行預處理；

(2)將預處理后的釹鐵硼磁體進行電鍍或者磷化處理；

(3)將電鍍或者磷化處理后的釹鐵硼磁體表面噴涂耐腐蝕涂層；

(4)將噴涂后的釹鐵硼磁體進行預固化，溫度100℃～150℃，時間20～30分鐘；

(5)將預固化后的釹鐵硼磁體進行固化，溫度180℃～220℃，時間20～60分鐘；

(6)將固化后的釹鐵硼磁體進行氣相沉積處理。

所述的步驟(1)中的預處理為除油→除銹→活化或者封閉。

所述的步驟(3)中耐腐蝕涂層的成分及配比(體積比)為：耐腐蝕涂料∶稀釋劑為1∶10～1∶3，所述的耐腐蝕涂層的厚度為5～40μm。

所述的稀釋劑為酮類化合物、醇類化合物和酯類化合物中的至少一種。

所述的稀釋劑為乙醇、丁醇、丙酮、丁酮、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的至少一種。

所述的步驟(6)中的氣相沉積處理為物理氣相沉積處理，所述的物理沉積處理過程中的靶功率為300～1500W，氣壓為0.2～1.0Pa，物理氣相沉積膜的厚度為3～15um。

所述的物理沉積處理過程中采用鋁膜、鉻膜或者氮化鈦膜。

所述的步驟(6)中的氣相沉積處理為化學氣相沉積處理，所述的化學氣相沉積膜的厚度為5～20um。

所述的化學氣相沉積處理過程中采用聚對二甲苯膜或者聚對二甲苯衍生物膜。

與現有技術相比，本發明的優點在于：先對釹鐵硼磁體表面進行電鍍，然后對電鍍后的釹鐵硼磁體噴涂耐腐蝕涂層，最后再在耐腐蝕涂層表面進行氣相沉積處理，噴涂的耐腐蝕涂層克服了電鍍鍍層的孔隙缺陷，并且在電鍍鍍層外形成新的防護層，耐腐蝕涂層和電鍍鍍層對釹鐵硼磁體形成雙重防護，提高了釹鐵硼磁體的耐腐蝕性，而氣相沉積處理不受產品結構的限制，一方面對電鍍處理和噴涂處理進一步鞏固，另一方面對電鍍處理和噴涂處理后效果不理想的釹鐵硼磁體的圓孔結構進一步施鍍，使釹鐵硼磁體的整體表面形成均勻防護層，通過電鍍、噴涂耐腐蝕涂層和氣相沉積處理后的釹鐵硼磁體，其耐中性鹽霧試驗經受時間達300小時以上，釹鐵硼磁體的使用壽命長，運行可靠性高，應用領域廣；

由于電鍍鍍層的存在，耐腐蝕涂層的厚度可以較薄，為5～40μm，這樣以較薄的涂層與電鍍鍍層結合，在保證釹鐵硼磁體具有足夠的耐腐蝕性的前提下，還可以縮短后期預固化和固化的時間，提高了工作效率，節約了成本；

如果稀釋劑為酮類化合物、醇類化合物和酯類化合物中的至少一種，可以減少有害物質的排放，降低對環境的污染和對操作人員的身體造成的傷害。

具體實施方式

以下結合實施例對本發明作進一步詳細描述。

實施例一：一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法，包括以下步驟：

(1)將具有圓孔結構的釹鐵硼磁體進行預處理：除油→除銹→封閉；

(2)將預處理后的釹鐵硼磁體進行磷化處理：將預處理后的釹鐵硼磁體浸入磷化液中，在預處理后的釹鐵硼磁體表面形成磷化膜層；