[發明專利]一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法有效
| 申請號: | 201110341049.X | 申請日: | 2011-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN102368438A | 公開(公告)日: | 2012-03-07 |
| 發明(設計)人: | 胡依群;鄭國芳;沈國迪;歐陽習科 | 申請(專利權)人: | 寧波韻升高科磁業有限公司;寧波韻升股份有限公司;寧波韻升特種金屬材料有限公司 |
| 主分類號: | H01F41/02 | 分類號: | H01F41/02;C23C18/00 |
| 代理公司: | 寧波奧圣專利代理事務所(普通合伙) 33226 | 代理人: | 程曉明 |
| 地址: | 315040 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 釹鐵硼 磁體 表面 復合 防護 方法 | ||
1.一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)將具有圓孔結構的釹鐵硼磁體進行預處理;
(2)將預處理后的釹鐵硼磁體進行電鍍或者磷化處理;
(3)將電鍍或者磷化處理后的釹鐵硼磁體表面噴涂耐腐蝕涂層;
(4)將噴涂后的釹鐵硼磁體進行預固化,溫度100℃~150℃,時間20~30分鐘;
(5)將預固化后的釹鐵硼磁體進行固化,溫度180℃~220℃,時間20~60分鐘;
(6)將固化后的釹鐵硼磁體進行氣相沉積處理。
2.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的步驟(1)中的預處理為除油→除銹→活化或者封閉。
3.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的步驟(3)中耐腐蝕涂層的成分及配比(體積比)為:耐腐蝕涂料∶稀釋劑為1∶10~1∶3,所述的耐腐蝕涂層的厚度為5~40μm。
4.根據權利要求3所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的稀釋劑為酮類化合物、醇類化合物和酯類化合物中的至少一種。
5.根據權利要求3所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的稀釋劑為丁醇、乙醇、丁酮、丙酮、乙酸乙酯和乙酸丁酯中的至少一種。
6.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的步驟(6)中的氣相沉積處理為物理氣相沉積處理,所述的物理沉積處理過程中的靶功率為300~1500W,氣壓為0.2~1.0Pa,物理氣相沉積膜的厚度為3~15um。
7.根據權利要求6所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的物理沉積處理過程中采用鋁膜、鉻膜或者氮化鈦膜。
8.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的步驟(6)中的氣相沉積處理為化學氣相沉積處理,所述的化學氣相沉積膜的厚度為5~20um。
9.根據權利要求8所述的一種釹鐵硼磁體的表面復合防護方法,其特征在于所述的化學氣相沉積處理過程中采用聚對二甲苯膜或者聚對二甲苯衍生物膜。
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