[發(fā)明專利]電磁屏蔽方法及制品無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110337315.1 | 申請日: | 2011-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN103096699A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張新倍;蔣煥梧;陳正士;徐華陽 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K9/00 | 分類號: | H05K9/00;B32B9/04;B32B15/00;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/35 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電磁 屏蔽 方法 制品 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種電磁屏蔽方法及其制品。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù),通常采用金屬外罩、沉積有金屬層的或結(jié)合有金屬薄片的塑料復(fù)合屏蔽罩或金屬纖維復(fù)合屏蔽罩來控制電磁干擾。然而,上述屏蔽罩均存在以下缺點:所占空間大、生產(chǎn)成本較高、安裝時難以實現(xiàn)屏蔽罩與印刷電路板(PCB)或柔性線路板(FPC)之間無縫安裝,如此導(dǎo)致屏蔽效率低下,PCB板或FPC板上的電子元件產(chǎn)生的熱量難以散發(fā)出去,以及使得電子元件工作性能不穩(wěn)定,甚至損壞電子元件。
于PCB板或FPC板上直接沉積樹脂絕緣層,再于該絕緣層上電鍍或化學(xué)鍍金屬層,可實現(xiàn)電磁屏蔽。但是,為了保證該樹脂絕緣層與PCB板或FPC板之間有良好的結(jié)合力,避免絕緣層發(fā)生剝落或龜裂等現(xiàn)象,對所使用的樹脂的粘度值有嚴格的限制。而能滿足上述粘度要求的樹脂只限于某些特殊的有機樹脂,這些特殊的有機樹脂成分多、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、難以制造。此外,該絕緣層的厚度較大(難以控制在納米級別),因而對電子元件的散熱存在不良影響。另外,電鍍或化學(xué)鍍金屬層對環(huán)境的污染較大。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于此,本發(fā)明提供一種電磁屏蔽方法。
另外,本發(fā)明還提供一種經(jīng)由上述電磁屏蔽方法制得的制品。
一種制品,包括基體及依次形成于該基體上的一絕緣層、導(dǎo)電層及防護層,該絕緣層為含氟二氧化硅層、二氧化硅層或氟氧化硅層,該導(dǎo)電層包括依次形成于所述絕緣層上的鉻層及銅層,所述防護層為鉻層、不銹鋼層或鎳鉻合金層。
一種電磁屏蔽方法,其包括如下步驟:
提供基體;
采用化學(xué)氣相沉積法,在反應(yīng)溫度為20~50℃下,于基體上形成一絕緣層,該絕緣層為含氟二氧化硅層、二氧化硅層或氟氧化硅層;
采用真空鍍膜法,在室溫下,以鉻靶為靶材,于該絕緣層上形成一鉻層;
采用真空鍍膜法,在室溫下,以銅靶為靶材,于該鉻層上形成一銅層;
采用真空鍍膜法,在室溫下,以鉻靶、不銹鋼靶及鎳鉻合金靶中的任意一種為靶材,于該銅層上形成一防護層,所述防護層為鉻層、不銹鋼層或鎳鉻合金層。
由于化學(xué)氣相沉積方法具有良好的繞鍍性能,使絕緣層平面處、凹處及折縫處沉積均勻,且可以做到與基體無縫結(jié)合,提高了基體的電磁屏蔽性能。
所述防護層具有較高的硬度,使所述制品在組裝、使用等過程中不易被刮傷而影響其電磁屏蔽性能。另外,通過上述方法形成的所述絕緣層、導(dǎo)電層及防護層的膜厚較小,可使電子元件產(chǎn)生的熱量快速的散發(fā)出去,提高制品的散熱性,進而提高了電子元件性能的穩(wěn)定性。另一方面,該絕緣層及導(dǎo)電層所占的空間小,質(zhì)量輕。此外,以真空鍍膜方法形成的絕緣層、導(dǎo)電層及防護層與基體、電子元件之間具有良好的結(jié)合力,可避免在使用過程中該絕緣層和/或?qū)щ妼影l(fā)生剝落或龜裂而降低制品的電磁屏蔽性能。
附圖說明
圖1是本發(fā)明一較佳實施例制品的剖視圖。
圖2為本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
主要元件符號說明
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