[發明專利]制造顯示單元的方法以及顯示單元

無效

• 申請號: 201110336926.4
• 申請日: 2009-06-09
• 公開（公告）號: CN102339957A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發明（設計）人: 荒井俊明
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;G02F1/133
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種制造顯示單元的方法，該顯示單元在第一電極和第二電極之間具有顯示層，其中形成該第一電極的步驟包括下面的步驟：

在基板上形成層疊結構，該層疊結構依次包括由金屬制作的第一層和由氧化物顯示導電性的金屬制作的第二層；

在所述第二層上形成絕緣膜，該絕緣膜覆蓋該第二層的平面形狀的一部分；并且

在形成該層疊結構及該絕緣膜后對該第二層的從該絕緣膜暴露的表面暴露部分提供表面氧化處理，由此在該第二層的該表面暴露部分中的厚度方向上的至少部分中形成氧化物電導體膜。

2.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中作為氧化物顯示導電性的金屬，使用選自由銦、錫、鋅和鎘組成的組中的至少一個。

3.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中所述第一電極的第二層由功函數高于所述第一層的材料制作。

4.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中所述第一電極形成為對應于所述顯示單元的各有機發光裝置。

5.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中所述第一電極形成在平坦化層上，所述第一電極在所述第一層和所述平坦化層之間具有第三層。

6.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中該第一層具有反射該顯示層發出的光的反射電極的功能。

7.根據權利要求1或6所述的制造顯示單元的方法，其中所述第一層具有100nm至1000nm的厚度。

8.根據權利要求7所述的制造顯示單元的方法，其中所述第一層的厚度為200nm。

9.根據權利要求1所述的制造顯示單元的方法，其中該第一層由高反射率電導體制作，該高反射率電導體由鋁或包含鋁的合金、或者銀或包含銀的合金制作。

10.根據權利要求9所述的制造顯示單元的方法，其中所述鋁合金與銦合金的標準電極電位相近。

11.一種顯示單元，在第一電極和第二電極之間具有顯示層，其中

該第一電極具有由第一層和第二層構成的層疊結構，該第一層由金屬制作，

覆蓋部分的該第二層的平面形狀的絕緣膜設置在該第一電極上，

該第二層的從該絕緣膜暴露的表面暴露部分在厚度方向上至少部分是氧化物電導體膜，該氧化物電導體膜是通過對氧化物顯示導電性的金屬提供表面氧化處理而形成，并且

該第二層的覆蓋有該絕緣膜的表面涂覆部分是由氧化物顯示導電性的金屬制作的金屬膜。

12.根據權利要求11所述的顯示單元，其中作為氧化物顯示導電性的金屬，使用選自由銦、錫、鋅和鎘組成的組中的至少一個。

13.根據權利要求11所述的顯示單元，其中所述第一電極的第二層由功函數高于所述第一層的材料制作。

14.根據權利要求11所述的顯示單元，其中所述第一電極形成為對應于所述顯示單元的各有機發光裝置。

15.根據權利要求11所述的顯示單元，其中所述第一電極形成在平坦化層上，所述第一電極在所述第一層和所述平坦化層之間具有第三層。

16.根據權利要求11所述的顯示單元，其中該第一層具有反射該顯示層發出的光的反射電極的功能。

17.根據權利要求11或16所述的顯示單元，其中所述第一層具有100nm至1000nm的厚度。

18.根據權利要求17所述的顯示單元，其中所述第一層的厚度為200nm。

19.根據權利要求11所述的顯示單元，其中該第一層由高反射率電導體制作，該高反射率電導體由鋁或包含鋁的合金、或者銀或包含銀的合金制作。

20.根據權利要求19所述的顯示單元，其中所述鋁合金與銦合金的標準電極電位相近。