[發(fā)明專利]防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110334871.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-10-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102455589A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 關(guān)原一敏 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F1/62 | 分類號(hào): | G03F1/62;G03F1/64 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防塵 薄膜 組件 框架 以及 | ||
1.一種防塵薄膜組件框架,包括:
(1)由碳纖維和樹脂構(gòu)成的內(nèi)部復(fù)合體;
(2)由樹脂構(gòu)成的包覆體,
所述的包覆體完全包覆所述的內(nèi)部復(fù)合體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防塵薄膜組件框架,其中所述內(nèi)部復(fù)合體包括碳纖維的層積體以及樹脂,所述層積體被所述樹脂浸漬。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防塵薄膜組件框架,其中所述包覆體為含氟樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防塵薄膜組件框架,其中所述包覆體為由硅樹脂制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防塵薄膜組件框架,其中所述包覆體由丙烯酸類樹脂制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5的任一項(xiàng)所述的防塵薄膜組件框架,其中所述包覆體為黑色。
7.一種防塵薄膜組件,包括根據(jù)權(quán)利要求2至6的任一項(xiàng)所述的防塵薄膜組件框架。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





