[發(fā)明專利]產(chǎn)生掩模數(shù)據(jù)的方法、制造掩模的方法和曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110333535.7
• 申請日: 2011-10-28
• 公開（公告）號: CN102592002A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 石井弘之;辻田好一郎
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G03F7/00;G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 卜榮麗

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生掩模數(shù)據(jù)的方法、用于制造掩模的方法和曝光方法。

背景技術(shù)

曝光裝置被用在用于制造集成電路(IC)、大規(guī)模集成電路(LSI)和其它半導(dǎo)體器件的工藝中。曝光裝置用照射設(shè)備照射掩模(中間掩模)，并通過使用投射光學(xué)系統(tǒng)將繪制在掩模上的圖案的圖像投射到襯底(晶片)上，以用于襯底曝光。

在用于改進(jìn)曝光裝置的分辨率性能的技術(shù)之中有一種超分辨率技術(shù)。根據(jù)該技術(shù)，例如，本身不解析(resolve)圖像的輔助圖案形成在掩模上。這樣的掩模然后被用于解析將形成在襯底上的圖案?？捎糜谠O(shè)計輔助圖案的布局的方法包括使用干涉圖的方法(Robert?Socha等人，″Simultaneous?Source?Mask?Optimization(SMO)，″Proc.SPIE5853，180-193(2005))、使用反向光刻的方法(Daniel?S.Abrams等人，″Fast?Inverse?Lithography?Technology，″Proc.SPIE?6154，61541J(2006))和日本專利申請公開No.2009-093138中所論述的方法。

根據(jù)Robert?Socha等人的″Simultaneous?Source?MaskOptimization(SMO)，″Proc.SPIE?5853，180-193(2005)，在圖案形狀優(yōu)化中分別確定將轉(zhuǎn)印到襯底的主圖案的形狀和輔助圖案的形狀。由于這兩個形狀可影響投射在襯底上的投射圖像，所以分開確定方法趨向于陷入局域極小值(局部解)中，并且不太可能達(dá)到掩模圖案的最優(yōu)形狀(最優(yōu)解)。還存在確定最優(yōu)解所需的計算量增大的問題。

日本專利申請公開No.2009-093138中所論述的方法通過使主圖案和輔助圖案變形來確定掩模圖案。該方法使用近似航拍圖像，而不是忠實(shí)地基于物理模型而計算的嚴(yán)謹(jǐn)圖像。由于僅基于掩模圖案的近似航拍圖像來確定該掩模圖案，所以存在引起優(yōu)化結(jié)果誤差的可能性。近似航拍圖像可表現(xiàn)出可使掩模圖案形狀復(fù)雜的復(fù)雜圖案。

Daniel?S.Abrams等人的″Fast?Inverse?LithographyTechnology，″Proc.SPIE?6154，61541J(2006)中所論述的反向光刻一次確定主圖案和輔助圖案。然而，反向光刻具有這樣的缺點(diǎn)，即，由于掩模圖案從具有連續(xù)變化值的復(fù)雜圖案的二維圖產(chǎn)生，所以所得掩模圖案復(fù)雜，并且掩模制造成本高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在一種可實(shí)現(xiàn)高分辨率性能和抑制的掩模制造成本的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生程序和方法。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，一種通過計算機(jī)產(chǎn)生將在曝光裝置中使用的掩模的數(shù)據(jù)的方法，所述曝光裝置使用用于將所述掩模的圖案的圖像投射到襯底上的投射光學(xué)系統(tǒng)使襯底曝光，其中，所述掩模包括用于解析將形成在襯底上的目標(biāo)圖案的主圖案和不進(jìn)行解析的輔助圖案，以及所述方法包括以下步驟：設(shè)置所述主圖案的參數(shù)的值和所述輔助圖案的參數(shù)的值；計算在通過使用所述投射光學(xué)系統(tǒng)投射分別由所述主圖案和輔助圖案的參數(shù)的設(shè)置值確定的所述主圖案和輔助圖案的情況下形成的圖像；和基于通過修改所述主圖案的參數(shù)的值和所述輔助圖案的參數(shù)的值而執(zhí)行的計算的結(jié)果來確定所述主圖案的參數(shù)的值和所述輔助圖案的參數(shù)的值，并產(chǎn)生包括所確定的所述主圖案和輔助圖案的掩模的數(shù)據(jù)。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，一種通過計算機(jī)確定將在曝光裝置中使用的掩模的數(shù)據(jù)和曝光條件的方法，所述曝光裝置使用用于將所述掩模的圖案的圖像投射到襯底上的投射光學(xué)系統(tǒng)使襯底曝光，其中，所述掩模包括用于解析將形成在襯底上的目標(biāo)圖案的主圖案和不進(jìn)行解析的輔助圖案，以及所述方法包括以下步驟：設(shè)置所述主圖案的參數(shù)的值和所述輔助圖案的參數(shù)的值；設(shè)置用于照射所述掩模的照射光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面上的光強(qiáng)度分布的參數(shù)的值；計算在通過在所述照射光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面上的所設(shè)置的光強(qiáng)度分布下使用所述投射光學(xué)系統(tǒng)來投射分別由所述主圖案和輔助圖案的參數(shù)的設(shè)置值確定的所述主圖案和輔助圖案的情況下形成的圖像；和基于通過修改所述主圖案的參數(shù)的值、所述輔助圖案的參數(shù)的值和所述照射光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面上的光強(qiáng)度分布的參數(shù)的值而執(zhí)行的計算的結(jié)果，確定所述主圖案的參數(shù)的值、所述輔助圖案的參數(shù)的值和所述照射光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面上的光強(qiáng)度分布的參數(shù)的值。

從以下參照附圖對示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征和方面將變得清楚。

附圖說明

合并在本說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的示例性實(shí)施例、特征和方面，并與描述一起用于說明本發(fā)明的原理。