[發明專利]產生掩模數據的方法、制造掩模的方法和曝光方法

有效

• 申請號: 201110333535.7
• 申請日: 2011-10-28
• 公開（公告）號: CN102592002A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 石井弘之;辻田好一郎
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G03F7/00;G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 卜榮麗

1.一種通過計算機產生將在曝光裝置中使用的掩模的數據的方法，所述曝光裝置使用用于將所述掩模的圖案的圖像投射到襯底上的投射光學系統使襯底曝光，其中，

所述掩模包括用于解析將形成在襯底上的目標圖案的主圖案和不進行解析的輔助圖案，以及

所述方法包括以下步驟：

設置所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值；

計算在通過使用所述投射光學系統投射分別由所述主圖案和輔助圖案的參數的設置值確定的所述主圖案和輔助圖案的情況下形成的圖像；和

基于通過修改所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值而執行的計算的結果來確定所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值，并產生包括所確定的所述主圖案和輔助圖案的掩模的數據。

2.根據權利要求1所述的方法，還包括以下步驟：

對計算的圖像進行評估，并確定評估結果是否滿足目標；

如果評估結果被確定為不滿足目標，則通過修改所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值來執行計算；和

如果評估結果被確定為滿足目標，則產生包括由當評估結果被確定為滿足目標時設置的所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值確定的所述主圖案和輔助圖案的掩模的數據。

3.根據權利要求1所述的方法，還包括以下步驟：

設置用于照射所述掩模的照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值；

計算在通過在所述照射光學系統的光瞳面上的所設置的光強度分布下使用所述投射光學系統投射分別由所述主圖案和輔助圖案的參數的設置值確定的所述主圖案和輔助圖案的情況下形成的圖像；和

基于通過修改所述主圖案的參數的值、所述輔助圖案的參數的值和所述照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值而執行的計算的結果，確定所述主圖案的參數的值、所述輔助圖案的參數的值和所述照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值；并產生包括所確定的主圖案和輔助圖案的掩模的數據。

4.一種通過計算機確定將在曝光裝置中使用的掩模的數據和曝光條件的方法，所述曝光裝置使用用于將所述掩模的圖案的圖像投射到襯底上的投射光學系統使襯底曝光，其中，

所述掩模包括用于解析將形成在襯底上的目標圖案的主圖案和不進行解析的輔助圖案，以及

所述方法包括以下步驟：

設置所述主圖案的參數的值和所述輔助圖案的參數的值；

設置用于照射所述掩模的照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值；

計算在通過在所述照射光學系統的光瞳面上的所設置的光強度分布下使用所述投射光學系統來投射分別由所述主圖案和輔助圖案的參數的設置值確定的所述主圖案和輔助圖案的情況下形成的圖像；和

基于通過修改所述主圖案的參數的值、所述輔助圖案的參數的值和所述照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值而執行的計算的結果，確定所述主圖案的參數的值、所述輔助圖案的參數的值和所述照射光學系統的光瞳面上的光強度分布的參數的值。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其中，所述主圖案具有多邊形形狀，所述主圖案的參數是與所述多邊形形狀相關的參數。

6.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其中，所述輔助圖案具有多邊形形狀，所述輔助圖案的參數是與所述多邊形形狀相關的參數。

7.一種用于制造掩模的方法，所述方法包括：

通過根據權利要求1所述的方法產生掩模的數據；和

使用所產生的掩模的數據制造掩模。

8.一種曝光方法，包括：

通過根據權利要求7所述的用于制造掩模的方法制造掩模；和

將所制造的掩模的圖案的圖像投射到襯底上，以使所述襯底曝光。