[發明專利]浸沒液體、曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請號: 201110325529.7
• 申請日: 2006-02-06
• 公開（公告）號: CN102385260A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 漢斯·詹森;馬克·凱爾特·斯坦溫哥;杰克布思·約翰納思·利昂納得斯·亨朱克思·沃斯貝;弗朗西斯克思·約翰內思·圣約瑟·詹森;安東尼·奎吉普
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種光刻裝置，包括：

投影系統，所述投影系統將圖案化的圖像投影到襯底上；

用于支撐所述襯底的襯底臺；

浸沒罩，用于將浸沒液體限制到所述投影系統的最終元件與所述襯底之間的空間；以及

電壓發生器，所述電壓發生器功能性地連接到所述襯底臺、并且功能性地連接到所述光刻裝置的第二部件；所述電壓發生器能夠在所述襯底臺與所述第二部件之間建立電壓差。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述第二部件是浸沒罩。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述浸沒罩形成對所述襯底的無接觸密封。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中，所述浸沒罩包括氣體密封，用于形成所述無接觸密封。

5.根據權利要求1或2所述的裝置，其中，所述襯底臺包括傳感器或傳感器板。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述電壓發生器能夠在所述傳感器或傳感器板與所述第二部件之間建立電壓。

7.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述傳感器包括圖像傳感器、劑量傳感器和像差傳感器中的一種或多種。

8.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述傳感器包括一種或多種金屬。

9.根據權利要求8所述的裝置，其中，所述傳感器包括鉻。

10.根據權利要求5所述的裝置，其中，所述傳感器包括涂層。

11.根據權利要求10所述的裝置，其中，所述涂層是氮化鈦涂層。

12.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述電壓差至少為0.1V。

13.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述電壓差至多為50V。

14.一種器件制造方法，包括：

將襯底支撐在襯底臺上；

通過投影系統將圖案從構圖裝置轉移到襯底上；

將浸沒液體限制在所述投影系統的最終元件與所述襯底之間的空間；以及

在所述光刻裝置的第二部件與所述襯底臺之間建立電壓差，所述光刻裝置的第二部件和所述襯底臺連接至電壓發生器。