[發明專利]薄膜沉積設備以及掩模單元和坩堝單元

有效

• 申請號: 201110319821.8
• 申請日: 2011-10-18
• 公開（公告）號: CN102453871A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發明（設計）人: 金武謙;樸一秀
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;薛義丹

本申請要求于2010年10月18日提交到韓國知識產權局的第10-2010-0101470號韓國專利申請和于2011年4月8日提交到韓國知識產權局的第10-2011-0032838號韓國專利申請的權益，兩項韓國專利申請的公開通過引用全部包含于此。

技術領域

本發明實施例的方面涉及薄膜沉積設備，更具體地講，涉及用于執行連續沉積的薄膜沉積設備以及包括在薄膜沉積設備中的掩模單元和坩堝單元。

背景技術

為了制造例如有機發光顯示裝置的諸如薄膜晶體管(TFT)的薄膜，通常使用沉積設備，在沉積設備中，蒸氣從沉積源產生并被沉積到靶材(例如基底)的表面。

在一般的薄膜沉積設備中，將靶材安裝在室(室中裝載有沉積源)中并執行沉積。在完成沉積之后，將沉積靶材從室中提取出，然后將另一靶材安裝在室中。這樣，由于在裝載和卸載靶材的過程中需要停止沉積，所以會降低沉積效率。此外，在坩堝的沉積源被完全消耗時，為了用新的坩堝更換該坩堝，需要再次停止沉積，因此操作速度明顯降低。

因此，需要克服這些缺點的薄膜沉積設備。

發明內容

根據本發明實施例的方面，薄膜沉積設備執行連續沉積，掩模單元和坩堝單元包括在薄膜沉積設備中。

根據本發明的實施例，薄膜沉積設備包括：基底移動單元，被構造成移動作為沉積靶材的基底；掩模單元，被構造成選擇地將沉積源的蒸氣向基底傳送；以及坩堝單元，包括容納沉積源并沿穿過掩模單元的循環路徑行進的多個坩堝。

掩模單元可以具有連續圓周形狀。

基底移動單元可以包括：夾持件，被構造成支撐基底并與掩模單元一起移動；以及導軌，用來支撐夾持件沿導軌滑動。

掩模單元可以包括：掩模構件，包括其中形成有掩模圖案的主體，其中，主體的至少一部分被構造成緊密地設置到基底；驅動器，用于移動掩模構件；以及功率傳輸構件，被構造成將驅動器的功率傳輸至掩模構件。

掩模構件的主體可以為具有腔的圓柱形構件。

功率傳輸構件可以包括具有腔的環形構件，掩模構件可以插入在與環形構件的內壁相鄰的腔中，用于傳輸驅動器的功率的齒輪單元可以布置在環形構件的外壁上。

掩模構件的主體可以包括多個板構件，功率傳輸構件可以包括多個環形構件和在環形構件的側壁上的多個支撐件，所述多個板構件可以彼此連接并且所述多個板構件被所述多個支撐件支撐，用于傳輸驅動器的功率的齒輪單元可以布置在環形構件的外壁上。

驅動器可以包括：搖輪，與功率傳輸構件齒輪結合；以及電機，連接到搖輪，用來旋轉搖輪。

掩模構件可以彈性地接觸到基底以增大與基底的接觸面積。

坩堝單元可以包括：循環軌，形成循環路徑；多個坩堝，用于容納沉積源并安裝在循環軌上；坩堝移動單元，被構造成沿循環軌移動所述多個坩堝；坩堝填充單元，用來將所述沉積源填充在所述多個坩堝中；以及坩堝加熱單元，被構造成加熱所述多個坩堝以產生沉積源的蒸氣。

坩堝單元還可以包括用來支撐在循環軌上的所述多個坩堝的多個球軸承。

坩堝單元還可以包括在循環軌上并被構造成將所述多個坩堝推向循環軌的壁的彈簧。

坩堝移動單元可以包括被構造成沿循環路徑的方向推動所述多個坩堝的旋轉移動輪。

坩堝填充單元可以包括：注入罐，沉積源裝在注入罐中；以及注入噴嘴，用于將裝在注入罐中的沉積源提供給在循環軌上的所述多個坩堝。

坩堝加熱單元可以包括：加熱線，嵌在所述多個坩堝中；功率源，用于將電壓施加到加熱線；以及接觸墊，位于所述多個坩堝上以將功率源和加熱線彼此連接。

坩堝單元還可以包括在接觸墊和功率源之間的球軸承。

多個接觸墊可以分別設置在所述多個坩堝中，與所述多個接觸墊對應的多個功率源可以被分別地設置以選擇地施加電壓。

所述薄膜沉積設備還可以包括遮蔽構件，以將沉積源的蒸氣導向基底的沉積位置。

遮蔽構件可以安裝在掩模單元內的坩堝單元的上部。

遮蔽構件可以固定到掩模單元并與掩模單元一起旋轉。

掩模單元可以包括多個掩模單元，坩堝單元可以包括多個坩堝單元，并且所述多個掩模單元和所述多個坩堝單元可以與單個基底移動單元對應。

所述多個掩模單元和所述多個坩堝單元可以被設置成沉積沉積源的各個顏色。

所述薄膜沉積設備還可以包括用于除去附著到掩模單元的沉積源的殘留物的掩模洗滌單元。