[發明專利]薄膜沉積設備以及掩模單元和坩堝單元

有效

• 申請號: 201110319821.8
• 申請日: 2011-10-18
• 公開（公告）號: CN102453871A
• 公開（公告）日: 2012-05-16
• 發明（設計）人: 金武謙;樸一秀
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;薛義丹

1.一種薄膜沉積設備，所述薄膜沉積設備包括：

基底移動單元，被構造成移動作為沉積靶材的基底；

掩模單元，被構造成選擇地將沉積源的蒸氣向基底傳送；以及

坩堝單元，包括容納沉積源并沿穿過掩模單元的循環路徑行進的多個坩堝。

2.如權利要求1所述的薄膜沉積設備，其中，掩模單元具有連續圓周形狀。

3.如權利要求1所述的薄膜沉積設備，其中，基底移動單元包括：

夾持件，被構造成支撐基底并與掩模單元一起移動；以及

導軌，用來支撐夾持件沿導軌滑動。

4.如權利要求1所述的薄膜沉積設備，其中，掩模單元包括：

掩模構件，包括其中形成有掩模圖案的主體，其中，主體的至少一部分被構造成緊密地設置到基底；

驅動器，用于移動掩模構件；以及

功率傳輸構件，被構造成將驅動器的功率傳輸至掩模構件。

5.如權利要求4所述的薄膜沉積設備，其中，掩模構件的主體為具有腔的圓柱形構件。

6.如權利要求5所述的薄膜沉積設備，

其中，功率傳輸構件包括具有腔的環形構件，

其中，掩模構件插入在與環形構件的內壁相鄰的腔中，以及

其中，用于傳輸驅動器的功率的齒輪單元布置在環形構件的外壁上。

7.如權利要求4所述的薄膜沉積設備，

其中，掩模構件的主體包括多個板構件，

其中，功率傳輸構件包括多個環形構件和在環形構件的側壁上的多個支撐件，

其中，所述多個板構件彼此連接并且所述多個板構件被所述多個支撐件支撐，以及

其中，用于傳輸驅動器的功率的齒輪單元布置在環形構件的外壁上。

8.如權利要求4所述的薄膜沉積設備，其中，驅動器包括：

搖輪，與功率傳輸構件齒輪結合；以及

電機，連接到搖輪，用來旋轉搖輪。

9.如權利要求4所述的薄膜沉積設備，其中，掩模構件彈性地接觸到基底以增大與基底的接觸面積。

10.如權利要求1所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝單元包括：

循環軌，形成循環路徑；

多個坩堝，用于容納沉積源并安裝在循環軌上；

坩堝移動單元，被構造成沿循環軌移動所述多個坩堝；

坩堝填充單元，用來將所述沉積源填充在所述多個坩堝中；以及

坩堝加熱單元，被構造成加熱所述多個坩堝以產生沉積源的蒸氣。

11.如權利要求10所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝單元還包括用來支撐在循環軌上的所述多個坩堝的多個球軸承。

12.如權利要求10所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝單元還包括在循環軌上并被構造成將所述多個坩堝推向循環軌的壁的彈簧。

13.如權利要求10所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝移動單元包括被構造成沿循環路徑的方向推動所述多個坩堝的旋轉移動輪。

14.如權利要求10所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝填充單元包括：

注入罐，沉積源裝在注入罐中；以及

注入噴嘴，用于將裝在注入罐中的沉積源提供給在循環軌上的所述多個坩堝。

15.如權利要求10所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝加熱單元包括：

加熱線，嵌在所述多個坩堝中；

功率源，用于將電壓施加到加熱線；以及

接觸墊，位于所述多個坩堝上以將功率源和加熱線彼此連接。

16.如權利要求15所述的薄膜沉積設備，其中，坩堝單元還包括在接觸墊和功率源之間的球軸承。

17.如權利要求15所述的薄膜沉積設備，

其中，多個接觸墊分別設置在所述多個坩堝中，以及

其中，與所述多個接觸墊對應的多個功率源被分別地設置以選擇地施加電壓。