[發明專利]氧化鋅微-納結構薄膜及其制備方法有效
| 申請號： | 201110315461.4 | 申請日： | 2011-10-12 |
| 公開（公告）號： | CN103050674A | 公開（公告）日： | 2013-04-17 |
| 發明（設計）人： | 楊金玲;費廣濤;李惠;歐陽浩淼;朱燕琴 | 申請（專利權）人： | 中國科學院合肥物質科學研究院 |
| 主分類號： | H01M4/48 | 分類號： | H01M4/48;B01J23/06;C25D9/04 |
| 代理公司： | 合肥和瑞知識產權代理事務所(普通合伙) 34118 | 代理人： | 任崗生;王挺 |
| 地址： | 230031*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化鋅 結構 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種氧化鋅微-納結構薄膜，包括襯底和其上覆有的由氧化鋅片簇組成的薄膜，其特征在于：
所述襯底為導電襯底；
所述薄膜的膜厚為18～22μm；
所述氧化鋅片簇的直徑為4～15μm，其由氧化鋅片交叉或折連站立組成；
所述氧化鋅片的片長為1～15μm、片厚為70～210nm，其由氧化鋅顆粒構成；
所述氧化鋅顆粒的粒徑為20～50nm。
2.根據權利要求1所述的氧化鋅微-納結構薄膜，其特征是導電襯底為金屬鈦片，或金屬金片，或金屬銀片，或不銹鋼片。
3.一種權利要求1所述氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，包括電化學沉積法，其特征在于完成步驟如下：
先將導電襯底置于濃度為0.18～0.22mol/L的硝酸鋅溶液中，以其為陰極、石墨片為陽極，于恒定電流密度為0.26～0.30mA/cm2下電沉積30～60min，得到其上覆有中間產物的導電襯底，再將其上覆有中間產物的導電襯底置于300～500℃下退火至少2h，制得氧化鋅微-納結構薄膜。
4.根據權利要求3所述的氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，其特征是導電襯底為金屬鈦片，或金屬金片，或金屬銀片，或不銹鋼片。
5.根據權利要求4所述的氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，其特征是在電沉積之前，先將導電襯底依次置于丙酮、無水乙醇和去離子水中各超聲清洗10min，再對其使用去離子水反復清洗后晾干。
6.根據權利要求5所述的氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，其特征是電沉積時的溫度為22～30℃。
7.根據權利要求6所述的氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，其特征是退火前，先使用去離子水沖洗去除中間產物上殘留的硝酸鋅溶液。
8.根據權利要求7所述的氧化鋅微-納結構薄膜的制備方法，其特征是退火的時間為2～3h。
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