[發(fā)明專利]用于金屬-氧化物-金屬電容器的保護結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110312112.7 | 申請日: | 2011-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN102456665A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 華偉君;張家龍;陳俊宏;趙治平;鄭價言;曾華洲 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/528 | 分類號: | H01L23/528;H01L27/08;H01L21/768;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京德恒律師事務(wù)所 11306 | 代理人: | 陸鑫;高雪琴 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 金屬 氧化物 電容器 保護 結(jié)構(gòu) | ||
相關(guān)申請的交叉參考
本申請要求于2010年10月18日提交的美國臨時專利申請第61/394,135號的優(yōu)先權(quán),其全部內(nèi)容并入本申請作為參考。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明基本上涉及半導(dǎo)體器件,更具體地來說,涉及用于金屬-氧化物-金屬(MOM)電容器的保護結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在諸如管芯切割工藝的半導(dǎo)體制造工藝期間,提供了一種密封環(huán)作為保護結(jié)構(gòu),這種密封環(huán)包括通過通孔插頭(via?plug)連接的金屬線的組合,保護了芯片免受諸如濕氣或者微裂痕的環(huán)境污染。這種密封環(huán)可以置于芯片的外邊緣,從而確保封閉的集成電路和器件的性能可靠。密封環(huán)還用于保護集成電路中所廣泛應(yīng)用的電容器。
金屬-氧化物-金屬(MOM)電容器是最常用的電容器之一。如果密封環(huán)與MOM電容器具有一段距離,則MOM電容器仍會受到可靠性問題的影響。一種增強密封環(huán)可靠性的方法是,將一個或者多個密封環(huán)置于靠近MOM電容器的位置。然而,附加密封環(huán)將額外占據(jù)芯片面積,從而,這種方法在先進的芯片設(shè)計中并不可取。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種電容器結(jié)構(gòu)、多層電容器以及形成電容器結(jié)構(gòu)的方法。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種電容器結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的電容器結(jié)構(gòu)包括:第一組電極,具有第一電極和第二電極,第一電極和第二電極形成在多個金屬化層中的第一金屬化層中,其中,第一電極和第二電極通過絕緣材料間隔開;第二組電極,具有第三電極和第四電極,第三電極和第四電極形成在多個金屬化層中的第二金屬化層中,其中,第三電極和第四電極通過絕緣材料間隔開;以及多個線插頭,將第二組電極連接到第一組電極。
其中,多個線插頭包括:
第一線插頭,將第一電極連接到第三電極;以及
第二線插頭,將第二電極連接到第四電極。
其中,第二組電極在第一組電極上方或者下方延伸。
其中,第一電極包括:第一總線,第一總線具有第一指狀物,
第二電極包括:第二總線,第二總線具有第二指狀物,
第三電極包括:第三總線,第三總線具有第三指狀物,
第四電極包括:第四總線,第四總線具有第四指狀物,以及
第一線插頭將第一總線連接到第三總線,第二線插頭將第二總線連接到第四總線。
其中,第一指狀物和第二指狀物以交替圖案設(shè)置,并且通過絕緣材料間隔開,并且,第三指狀物和第四指狀物配置為交替圖案,并且通過絕緣材料間隔開。
其中,線插頭的厚度為大約50nm到大約1000nm。
其中,絕緣材料的介電常數(shù)小于大約3.0。
其中,制造每個線插頭的材料選自包含銅、銅合金、鋁、鋁合金、以及上述的組合的組。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種多層電容器。
根據(jù)本發(fā)明的多層電容器包括:第一組電極,具有第一電極和第二電極,其中,第一電極和第二電極位于第一金屬化層中,第一電極和第二電極通過絕緣材料間隔開,并且,其中,第一電極包括第一總線,第一總線具有第一指狀物,第二電極包括第二總線,第二總線具有第二指狀物;第二組電極,具有第三電極和第四電極,其中,第三電極和第四電極位于第二金屬化層中,第三電極和第四電極通過絕緣材料間隔開,并且,其中,第三電極包括第三總線,第三總線具有第三指狀物,第四電極包括第四總線,第四總線具有第四指狀物;第一線插頭,將第一總線連接到第三總線;以及第二線插頭,將第二總線連接到第四總線。
其中,電容器是金屬-氧化物-金屬電容器。
其中,電容器集成到存儲邏輯器件中。
其中,第二組電極在第一組電極上方或者下方延伸。
其中,制造每個線插頭的材料選自包含銅、銅合金、鋁、鋁合金、以及上述的組合的組。
其中,線插頭的厚度為大約50nm到大約1000nm。
根據(jù)本發(fā)明的再一方面,提供了一種形成電容器結(jié)構(gòu)的方法。
根據(jù)本發(fā)明的形成電容器結(jié)構(gòu)的方法包括:形成第一組電極,第一組電極具有第一電極和第二電極,其中,第一電極和第二電極位于第一金屬化層中;形成第二組電極,第二組電極具有第三電極和第四電極,其中,第三電極和第四電極位于第二金屬化層中;在第一組電極和第二組電極之間形成絕緣層;形成第一線插頭,第一線插頭將第一電極連接到第三電極;以及形成第二線插頭,第二線插頭將第二電極連接到第四電極。
其中,第二組電極在第一組電極上方或者下方延伸。
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