[發明專利]壓電振動片的制造方法、晶片、壓電振動器、振蕩器、電子設備及電波鐘無效
| 申請號: | 201110310148.1 | 申請日: | 2011-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN102447448A | 公開(公告)日: | 2012-05-09 |
| 發明(設計)人: | 有松大志 | 申請(專利權)人: | 精工電子有限公司 |
| 主分類號: | H03H3/02 | 分類號: | H03H3/02;G04C9/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;王忠忠 |
| 地址: | 日本千葉*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電 振動 制造 方法 晶片 振動器 振蕩器 電子設備 電波 | ||
技術領域
本發明涉及壓電振動片的制造方法、晶片(wafer)、壓電振動器、振蕩器、電子設備及電波鐘。?
背景技術
近年來,在便攜電話或便攜信息終端設備中,具有利用了水晶等的壓電振動片的壓電振動器被用作時刻源或控制信號等的定時源、參考信號源等。作為這種壓電振動片,已知的結構為:具備由壓電材料構成的壓電板,以及在被施加電壓時使壓電板振動的電極部;電極部由在壓電板的外表面上層疊并且圖案互相不同的多層電極膜構成。?
然而,一般是利用晶片一次制造多個這樣的壓電振動片,作為制造方法的一個例子,可舉出例如下列專利文獻1所示的方法。在該方法中,在晶片形成壓電基板的外形形狀并且形成對準標記(alignmentmarker)之后,形成電極部。?
這里,當形成電極部的各電極膜時,首先在晶片涂敷抗蝕(resist)膜后,通過在晶片配置光掩模(photomask)且構圖抗蝕膜,從而形成抗蝕圖案,其后,基于抗蝕圖案形成電極膜。在該過程中在晶片配置光掩模時,通過利用對準標記使光掩模與晶片對位,從而能夠高精度地形成電極部。?
專利文獻1:日本特開2007-142795號公報?
發明內容
這里,如前所述,在電極部由圖案互不相同的多層電極膜構成時,?由于形成對應于各電極膜而形狀互不相同的抗蝕圖案,所以需要使用多種光掩模。?
然而,在所述現有壓電振動片的制造方法中,有可能配置種類與本應配置的光掩模不同的光掩模而形成抗蝕圖案。在此情況下,不能將電極膜構圖成期望的圖案,導致晶片廢棄等,從而制造成本上升。?
本發明是鑒于上述情況而做出的,其目的在于,提供一種壓電振動片的制造方法,能夠防止在誤配置了掩模部件的狀態下形成抗蝕圖案,從而能謀求低成本化。?
為了解決上述課題,本發明提出以下的方案。?
本發明涉及的壓電振動片的制造方法,形成具備由壓電材料構成的壓電板,以及在施加電壓時使所述壓電板振動的電極部的壓電振動片,該電極部由層疊于所述壓電板的外表面上并且圖案互不相同的多層電極膜構成,所述壓電振動片的制造方法的特征在于,具有在形成有所述壓電板的外形形狀的晶片形成所述電極部的電極形成工序,該電極形成工序具有通過光刻技術在所述晶片形成所述多層電極膜的每一個的多個電極膜形成工序,所述多個電極膜形成工序分別具有抗蝕圖案形成工序,在所述晶片涂敷抗蝕膜后,在所述晶片配置準備用于各電極膜的多個掩模部件之中的、準備用于在該電極膜形成工序中形成的一個電極膜的所述掩模部件,其后,隔著該掩模部件照射光,從而形成抗蝕圖案;在該抗蝕圖案形成工序中,將在準備用于所述一個電極膜的所述掩模部件形成的掩模側標記,與在所述晶片形成的多個晶片側標記之中的與該掩模部件對應的所述晶片側標記對位,并且在所述晶片配置所述掩模部件;所述掩模側標記由貫通所述掩模部件的露出開口構成,并且所述多個掩模部件的每一個中該露出開口的俯視形狀不同;所述多個晶片側標記分別由凹部構成,該凹部的俯視形狀,以與該晶片側標記對應的所述掩模部件中的所述露出開口的俯視形狀相等的方式,在所述多個晶片側標記的每一個中不同;所述抗蝕圖案形成工序,通過使所述凹部從所述露出開口露出,使所述掩模側?標記對位到所述晶片側標記。?
另外,本發明涉及的晶片,使用所述壓電振動片的制造方法,其特征在于,形成有與所述多個掩模部件分別對應的多個晶片側標記,該多個晶片側標記分別由凹部構成,該凹部的俯視形狀,以與該晶片側標記對應的所述掩模部件中的所述露出開口的俯視形狀相等的方式,在所述多個晶片側標記的每一個中不同。?
依據本發明,凹部的俯視形狀,以與該晶片側標記對應的掩模部件中的露出開口的俯視形狀相等的方式,在每個多個晶片側標記不同,所以在進行抗蝕圖案形成工序時,即使與為一個電極膜用而準備的掩模部件不同的掩模部件的露出開口對位到凹部,露出開口的俯視形狀與凹部的俯視形狀也會不一致,從而不能使整個凹部從露出開口露出。由此,可防止在配置了不同種類的掩模部件的狀態下形成抗蝕圖案,能夠抑制晶片的廢棄等從而謀求壓電振動片的低成本化。?
另外,在所述壓電振動片的制造方法中,以使所述露出開口在所述掩模部件互相隔開間隔的方式形成一對所述掩模側標記,以使所述凹部在所述晶片互相隔開間隔的方式分別形成一對所述多個晶片側標記,所述露出開口的俯視形狀,在一對露出開口相遠離的一個方向,以及沿該掩模部件的表面且在與所述一個方向正交的另一方向的兩個方向上非對稱,亦可。?
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