[發明專利]基板處理裝置以及基板處理方法無效
| 申請號: | 201110302814.7 | 申請日: | 2011-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN102437050A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發明(設計)人: | 真柄啟二;橋詰彰夫;太田喬 | 申請(專利權)人: | 大日本網屏制造株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/311 | 分類號: | H01L21/311 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅會;郭曉東 |
| 地址: | 日本國京*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 以及 方法 | ||
1.一種基板處理裝置,通過磷酸、硫酸和水的混合液來處理基板,其特征在于,包括:
基板保持單元,其用于保持基板,
混合液供給單元,其具有第一儲料容器和處理液的流通路,在上述第一儲料容器中儲存有要向被上述基板保持單元保持的基板供給的處理液,上述流通路從上述第一儲料容器到達被上述基板保持單元保持的基板,在上述混合液供給單元中,通過向上述流通路供給磷酸、硫酸和水,使含有硫酸的液體和含有水的液體在上述流通路中相混合,從而使磷酸、硫酸和水的混合液的溫度升高,由此將包含沸點附近的磷酸水溶液的混合液供給至上述基板。
2.如權利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,
上述混合液供給單元還包括:
第一噴嘴,其向被上述基板保持單元保持的基板噴出處理液,
第一供給管,其用于使從上述第一儲料容器向上述第一噴嘴供給的處理液流通;
上述流通路包括上述第一供給管的內部、上述第一噴嘴的內部、上述第一噴嘴和被上述基板保持單元保持的基板之間的空間。
3.如權利要求1或2所述的基板處理裝置,其特征在于,在上述第一儲料容器中儲存有含有磷酸、硫酸和水中的至少兩者的混合液。
4.如權利要求1或2所述的基板處理裝置,其特征在于,上述混合液供給單元包括:
水供給管,其用于使要向上述流通路供給的含有水的液體流通;
流量調節閥,其調節在上述水供給管內流動的液體的流量;
溫度檢測裝置,其在上述流通路中檢測磷酸、硫酸和水的混合液的溫度;
流量控制裝置,其根據上述溫度檢測裝置的輸出信息來控制上述流量調節閥。
5.如權利要求1或2所述的基板處理裝置,其特征在于,
上述第一儲料容器包括混合液儲料容器,在該混合液儲料容器中儲存有磷酸、硫酸和水的混合液,
上述基板處理裝置還包括回收單元,該回收單元對已供給至被上述基板保持單元保持的基板上的磷酸、硫酸和水的混合液進行回收,并將所回收的混合液供給至上述混合液儲料容器。
6.如權利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,上述混合液供給單元還包括:
磷酸供給單元,其向上述混合液儲料容器和流通路中的至少一者供給含有磷酸的液體;
硫酸供給單元,其向上述混合液儲料容器和流通路中的至少一者供給含有硫酸的液體。
7.一種基板處理方法,通過磷酸、硫酸和水的混合液來處理基板,其特征在于,包括:
升溫工序,通過向處理液的流通路供給磷酸、硫酸和水,使含有硫酸的液體和含有水的液體在該流通路中相混合,從而使磷酸、硫酸和水的混合液的溫度升高,其中,上述流通路從儲存有要向基板供給的處理液的第一儲料容器到達基板;
混合液供給工序,將在上述升溫工序中生成的含有沸點附近的磷酸水溶液的混合液供給至基板。
8.一種基板處理裝置,其特征在于,包括:
基板保持單元,其用于保持基板;
混合液供給單元,其使混合時發熱的第一液體和第二液體在處理液的流通路中相混合,并將含有第一液體和第二液體的混合液供給至上述基板,其中,上述流通路到達被上述基板保持單元保持的基板。
9.如權利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于,
上述混合液供給單元包括:
第一液體供給單元,其用于供給在上述流通路中與第二液體混合的第一液體,
第二液體供給單元,其用于供給在上述流通路中與第一液體混合的第二液體;
上述第一液體供給單元包括:
第一儲料容器,其儲存有第一液體,
第一供給管,其與上述第一儲料容器相連接,
第一噴嘴,其與上述第一供給管相連接,向被上述基板保持單元保持的基板噴出第一液體;
上述第一儲料容器、上述第一供給管、上述第一噴嘴、上述第一噴嘴和與上述基板之間的空間形成上述流通路。
10.如權利要求9所述的基板處理裝置,其特征在于,上述第二液體供給單元包括:
第二儲料容器,其儲存有第二液體;
第二供給管,其與上述第一供給管和第一噴嘴中的至少一者以及上述第二儲料容器相連接。
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