[發明專利]圖案形成裝置及圖案形成方法無效
| 申請號: | 201110302788.8 | 申請日: | 2011-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN102694061A | 公開(公告)日: | 2012-09-26 |
| 發明(設計)人: | 真田雅和;巖島正信;古市考次 | 申請(專利權)人: | 大日本網屏制造株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;郭曉東 |
| 地址: | 日本國京*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖案 形成 裝置 方法 | ||
1.一種圖案形成裝置,其特征在于,
具有:
基板保持裝置,保持基板,
第一嘴體,列狀地排列配置有多個第一噴出口,所述多個第一噴出口分別噴出含有用于形成圖案的材料的涂敷液,
第二嘴體,具有噴出所述涂敷液的第二噴出口,
移動裝置,使所述第一嘴體沿著與所述第一噴出口的排列方向垂直的掃描移動方向相對于所述基板移動,并且使所述第二嘴體沿著所述掃描移動方向,以所述第二噴出口在所述排列方向上通過所有所述第一噴出口的外側的方式相對于所述基板移動;
從所述第一噴出口噴出所述涂敷液的時刻和從所述第二噴出口噴出所述涂敷液的時刻不同。
2.如權利要求1所述的圖案形成裝置,其特征在于,所述移動裝置使所述第一嘴體以與從所述第一噴出口噴出所述涂敷液的動作同步的方式相對于所述基板移動,另一方面,所述移動裝置使所述第二嘴體以與從所述第二噴出口噴出所述涂敷液的動作同步的方式相對于所述基板移動。
3.如權利要求1或2所述的圖案形成裝置,其特征在于,能夠改變所述第二嘴體的所述第二噴出口在所述排列方向上的位置。
4.如權利要求3所述的圖案形成裝置,其特征在于,所述移動裝置能夠根據所述第二噴出口在所述排列方向上的位置設定,來改變所述第二嘴體在所述掃描移動方向上相對于所述基板的相對移動量。
5.如權利要求1或2所述的圖案形成裝置,其特征在于,具有所述第二噴出口的位置在所述排列方向上互不相同的多個所述第二嘴體。
6.如權利要求3所述的圖案形成裝置,其特征在于,在所述第一嘴體的所述排列方向上的兩側設置有一對所述第二噴出口。
7.如權利要求6所述的圖案形成裝置,其特征在于,
一對所述第二噴出口設置在關于所述第一噴出口的列對稱的位置,
所述移動裝置使一對所述第二噴出口相對于所述基板一體地移動。
8.如權利要求6所述的圖案形成裝置,其特征在于,從貯存有所述涂敷液的同一個涂敷液貯存部分別向一對所述第二噴出口供給所述涂敷液。
9.如權利要求1所述的圖案形成裝置,其特征在于,從貯存有所述涂敷液的同一個涂敷液貯存部分別向所述多個第一噴出口供給所述涂敷液。
10.如權利要求1所述的圖案形成裝置,其特征在于,
所述第一嘴體及所述第二嘴體在所述掃描移動方向上的位置被固定,
所述移動裝置通過使保持有所述基板的所述基板保持裝置移動,來使所述第一嘴體及所述第二嘴體相對于所述基板移動。
11.一種圖案形成方法,將含有用于形成圖案的材料的涂敷液涂敷在基板上來形成圖案,其特征在于,
具有:
第一工序,使列狀排列配置有分別噴出所述涂敷液的多個第一噴出口的第一嘴體,沿著與所述第一噴出口的排列方向垂直的掃描移動方向相對于所述基板移動,由此形成與所述多個第一噴出口相對應的多個線條狀圖案,
第二工序,使具有噴出所述涂敷液的第二噴出口的第二嘴體,沿著所述掃描移動方向,以所述第二噴出口在所述排列方向上通過所有所述第一噴出口的外側的方式相對于所述基板移動,由此形成線條狀圖案;
使從所述第一噴出口噴出所述涂敷液的時刻與從所述第二噴出口噴出所述涂敷液的時刻不同。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





