[發(fā)明專利]圖案形成裝置及圖案形成方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110302788.8 | 申請日: | 2011-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN102694061A | 公開(公告)日: | 2012-09-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 真田雅和;巖島正信;古市考次 | 申請(專利權)人: | 大日本網屏制造株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋曉寶;郭曉東 |
| 地址: | 日本國京*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖案 形成 裝置 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及在基板表面涂敷涂敷液來形成規(guī)定的圖案的圖案形成技術。
背景技術
作為在基板上形成規(guī)定的圖案的技術,具有在基板上涂敷含有用于形成圖案的材料的涂敷液并使其固化的技術。例如,本申請的申請人已經公開的日本特開2010-278225號公報中所記載的技術是能夠適用于在具有光電轉換面的基板上形成布線圖案來制造光電轉換器件的技術。在該技術中,使具有多個噴出口的嘴相對于基板掃描移動,并且從各噴出口噴出含有圖案形成材料的涂敷液,從而在基板上形成相互平行且長度相等的多個線條狀圖案。
將要通過這種圖案形成技術形成圖案的基板的形狀各種各樣。例如,作為太陽能電池組的基板而使用的單晶硅基板是將正方形的四個角切掉了的八邊形。這是為了有效利用圓形的單晶硅晶片的面積。形成在這樣的基板上的圖案的長度不恒定。
但是,通過上述技術形成的圖案的長度全都相同。通過涂敷而高效地在這樣的非矩形的基板(下面稱為“不規(guī)則形狀基板”)上形成圖案的技術,至今還未出現。
發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的,其目的在于提供一種在基板上涂敷涂敷液來形成規(guī)定的圖案的圖案形成技術中高效地在不規(guī)則形狀基板上形成圖案的技術。
本發(fā)明的圖案形成裝置為了達到上述目的,其特征在于,具有:基板保持裝置,保持基板,第一嘴體,列狀地排列配置有多個第一噴出口,所述多個第一噴出口分別噴出含有用于形成圖案的材料的涂敷液,第二嘴體,具有噴出所述涂敷液的第二噴出口,移動裝置,使所述第一嘴體沿著與所述第一噴出口的排列方向垂直的掃描移動方向相對于所述基板移動,并且使所述第二嘴體沿著所述掃描移動方向,以所述第二噴出口在所述排列方向上通過所有所述第一噴出口的外側的方式相對于所述基板移動;從所述第一噴出口噴出所述涂敷液的時刻和從所述第二噴出口噴出所述涂敷液的時刻不同。
在這樣構成的發(fā)明中,能夠通過第一嘴體的掃描移動,一次形成與上述的專利文獻所記載的內容相同的、相互平行且長度相等的線條狀的多個圖案。而且,能夠通過第二嘴體的掃描移動及與第一嘴體不同的噴出時刻噴出涂敷液的動作,形成與第一嘴體形成的各圖案平行且長度與這些圖案的長度不等的圖案。并且,通過組合第一嘴體及第二嘴體的涂敷動作,能夠高效地在非矩形的不規(guī)則形狀基板上形成圖案。
在本發(fā)明中,例如移動裝置可以使第一嘴體以與從第一噴出口噴出涂敷液的動作同步的方式,相對于基板移動,另一方面,使第二嘴體以與從第二噴出口噴出涂敷液的動作同步的方式,相對于基板移動。在開始噴出涂敷液時及停止時那樣的過渡狀態(tài)下,因為噴出量不穩(wěn)定,所以圖案形狀會錯亂。通過使第一嘴體及第二嘴體相對于基板的移動與噴出的時刻同步地進行,能夠消除錯亂的問題。
另外,例如能夠改變第二嘴體的第二噴出口在排列方向上的位置。通過這樣的結構,通過在排列方向上改變第二噴出口的位置,并且在那時進行掃描移動,能夠形成多個圖案。尤其是如果根據第二噴出口在排列方向上的位置設定,來改變第二嘴體在掃描移動方向上的相對于基板的相對移動量,則能夠通過第二嘴體形成各種長度的圖案。
另外,例如可以配置第二噴出口的位置在排列方向上互不相同的多個第二嘴體。通過這樣,能夠通過多個第二嘴體高效地形成多個圖案。
另外,例如可以在第一嘴的排列方向上的兩側設置有一對第二噴出口。這樣,能夠在第一嘴體形成的圖案的兩側形成長度與該圖案的長度不等的圖案。此外,雖然第二噴出口需要在排列方向上位于第一嘴體的兩側,但未限定在掃描移動方向上的第一嘴體與第二噴出口的位置關系。
這種情況下,可以使一對第二噴出口設置在關于第一噴出口的列對稱的位置,移動裝置使該一對第二噴出口一體地相對于基板移動。通過這樣的結構,能夠高效地在例如太陽能電池用的單晶硅基板那樣的具有相對于掃描移動方向上的軸對稱的形狀的基板上形成圖案。
另外,例如可以從貯存有涂敷液的同一涂敷液貯存部分別向一對第二噴出口供給涂敷液。若這樣,則使從各個第二噴出口噴出的涂敷液的噴出條件相同,能夠形成截面形狀及長度整齊的圖案。同樣地,可以從貯存有涂敷液的同一涂敷液貯存部對多個第一噴出口供給涂敷液。這樣,能夠使通過第一嘴體形成的多個圖案的截面形狀及長度整齊。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于大日本網屏制造株式會社,未經大日本網屏制造株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110302788.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:服務的混搭方法和裝置
- 下一篇:運載火箭慣性平臺的脈沖信號測試裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





