[發(fā)明專利]太陽能電池片及其熱處理工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110301536.3 | 申請日: | 2011-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN102315332A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王紅芳;熊景峰;胡志巖;李高非;安海嬌;于全慶;劉偉 | 申請(專利權(quán))人: | 英利能源(中國)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/06 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長明 |
| 地址: | 071051 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 及其 熱處理 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及太陽能電池的生產(chǎn)加工領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種太陽能電池片及其熱處理工藝。
背景技術(shù)
太陽能電池,也稱光伏電池,是一種將太陽的光能直接轉(zhuǎn)化為電能的半導(dǎo)體器件。由于它是綠色環(huán)保產(chǎn)品,不會引起環(huán)境污染,而且是可再生資源,所以在當(dāng)今能源短缺的情形下,太陽能電池是一種有廣闊發(fā)展前途的新型能源。目前,80%以上的太陽電池是由晶體硅(單晶硅和多晶硅)材料制備而成,因此,制備高效率的晶體硅太陽電池對于大規(guī)模利用太陽能發(fā)電有著十分重要的意義。
目前,晶體硅太陽能電池的生產(chǎn)過程已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化,其主要步驟如下:
步驟S11、化學(xué)清洗硅片表面以及表面織構(gòu)化處理(即表面制絨),通過化學(xué)反應(yīng)在原本光滑的硅片表面形成凹凸不平的結(jié)構(gòu),以增強光的吸收;
步驟S12、擴(kuò)散制結(jié),將P型(或N型)的硅片放入擴(kuò)散爐內(nèi),使N型(或P型)雜質(zhì)原子接觸硅片表面層,通過硅原子之間的空隙向硅片內(nèi)部滲透擴(kuò)散,形成PN結(jié),使電子和空穴在流動后不再回到原處,這樣便形成電流,也就是使硅片具有光伏效應(yīng),擴(kuò)散的濃度、結(jié)深以及擴(kuò)散的均勻性直接影響太陽能電池的電性能,擴(kuò)散進(jìn)雜質(zhì)的總量用方塊電阻來衡量,雜質(zhì)總量越小,方塊電阻越大,轉(zhuǎn)換效率越低,在常規(guī)P型晶體硅太陽能電池中,一般只在電池正面進(jìn)行擴(kuò)散制結(jié),在N型晶體硅太陽能電池中,還會在電池背面采用擴(kuò)散工藝形成背場,所述P型晶體硅包括P型的單晶硅和多晶硅,同理,所述N型晶體硅包括N型的單晶硅和多晶硅;
步驟S13、周邊等離子刻蝕,去除擴(kuò)散過程中在硅片邊緣形成的將PN結(jié)短路的導(dǎo)電層;
步驟S14、平板PECVD(plasma?enhanced?chemical?vapor?deposition,等離子增強型化學(xué)氣相淀積),即沉積減反射膜,主要采用氮化硅膜、氮氧化硅和/或氮化鈦膜,利用薄膜干涉原理,減少光的反射,起到鈍化作用,增大電池的短路電流和輸出功率,提高轉(zhuǎn)換效率;
步驟S15、印刷電極,在常規(guī)P型晶體硅太陽能電池中,一般采用銀漿印刷正電極和背電極,采用鋁漿印刷背電場,以收集電流并起到導(dǎo)電的作用,在N型晶體硅太陽能電池中,一般背場是在擴(kuò)散過程中形成的;
步驟S16、燒結(jié),在高溫下使印刷的金屬電極與硅片之間形成合金,也就是使各接觸面都形成良好的歐姆接觸,減小電池的串聯(lián)電阻,增加電池的輸出電壓和輸出電流,因此能否形成良好的歐姆接觸對整個電池片的轉(zhuǎn)換效率有著至關(guān)重要的作用。
在實際生產(chǎn)過程中發(fā)現(xiàn),經(jīng)過上述方法生產(chǎn)出的電池片中往往會出現(xiàn)一定比例的轉(zhuǎn)換效率偏低的電池片,這里將轉(zhuǎn)換效率低于18%的太陽能電池片稱為等外低效片或低效片。現(xiàn)有技術(shù)中處理上述低效片的方法就是通過分揀測試后,將上述低效片篩選出來,直接按照等外低效產(chǎn)品進(jìn)行入庫包裝,這種處理方式?jīng)]有充分挖掘出電池片的轉(zhuǎn)換效率,降低了經(jīng)濟(jì)效益。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供了一種太陽能電池片及其熱處理工藝,進(jìn)一步提高了電池片光電轉(zhuǎn)換效率,提高了經(jīng)濟(jì)效益。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實施例提供了如下技術(shù)方案:
一種太陽能電池片熱處理工藝,包括:
a)從經(jīng)過印刷燒結(jié)后的太陽能電池片中,篩選出轉(zhuǎn)換效率低于18%,且填充因子在70%以上的電池片;
b)對篩選出的電池片進(jìn)行低溫退火,以提高所述篩選出的電池片的轉(zhuǎn)換效率,所述低溫退火的溫度低于正常的燒結(jié)溫度;
c)對經(jīng)低溫退火后的電池片進(jìn)行分揀測試,篩選出填充因子下降的電池片;
d)對步驟c)中篩選出的電池片進(jìn)行重新燒結(jié),以提高所述電池片的填充因子,所述重新燒結(jié)的溫度與正常燒結(jié)溫度相同;
e)對經(jīng)重新燒結(jié)的電池片進(jìn)行分揀測試,篩選出轉(zhuǎn)換效率低于18%的電池片,返回步驟b),直至篩選出的大部分或全部電池片的轉(zhuǎn)換效率均高于18%,且填充因子在70%以上。
優(yōu)選的,所述電池片的基底材料為單晶硅,所述篩選出的電池片為因單晶硅拉制過程中引入的缺陷導(dǎo)致的轉(zhuǎn)換效率低的太陽能電池片。
優(yōu)選的,在印刷燒結(jié)之前還包括:電池片表面的制絨過程、擴(kuò)散制結(jié)過程和周邊等離子刻蝕過程,所述擴(kuò)散制結(jié)過程為,在電池片的正面進(jìn)行擴(kuò)散制結(jié),在電池片的背面擴(kuò)散制作背場。
優(yōu)選的,進(jìn)行周邊等離子刻蝕過程后還包括,沉積減反射膜過程和印刷電極過程,所述沉積減反射膜過程為,在電池片的正面和背面先后均進(jìn)行減反射膜的沉積。
優(yōu)選的,制作所述電池片的基底材料為N型單晶硅。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





