[發(fā)明專利]一種微光、激光透射且中紅外光反射膜及棱鏡、制備方法

有效

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• 申請日: 2011-09-29
• 公開（公告）號: CN102368097A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發(fā)明（設計）人: 劉鳳玉
• 申請（專利權）人: 中國航空工業(yè)集團公司洛陽電光設備研究所
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B5/08;G02B5/04;B32B9/00;C23C14/06;C23C14/24
• 代理公司: 鄭州睿信知識產(chǎn)權代理有限公司 41119
• 代理人: 陳浩

技術領域

本發(fā)明屬于光學器件及其制備技術領域，具體涉及一種微光、激光透射且中紅外光反射膜，還涉及鍍制有該膜的棱鏡及其制備方法。

背景技術

對于某些特殊要求的光電產(chǎn)品，由于受空間及重量的限制，在產(chǎn)品具有同樣功能特性的情況下，減小體積與重量有著非常重要的意義。本發(fā)明鍍有微光、激光透射，中紅外光反射膜的氟化鈣膠合棱鏡為“三光合一”光電產(chǎn)品的關鍵元件，具有將接收的三波段光線進行分離的作用。目前未查閱到與本發(fā)明提供的微光、激光透射且中紅外光反射膜的膜系結構設計、鍍制方法相同的三波段分光膜的報道或資料。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種微光、激光透射且中紅外光反射膜。

本發(fā)明的目的還在于提供一種微光、激光透射，且中紅外光反射的棱鏡。

本發(fā)明的目的還在于提供一種微光、激光透射，且中紅外光反射的棱鏡的制備方法。

為了實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明所采用的技術方案是：一種微光、激光透射且中紅外光反射膜，該膜由23層膜層組成，屬部分層優(yōu)化的周期性對稱膜系結構，奇數(shù)膜層的膜料均為氟化鎂，偶數(shù)膜層的膜料均為硫化鋅，第1層膜層和第23層膜層的光學厚度是833nm，第2層膜層和第22層膜層的光學厚度是1196nm，第3層膜層、第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層、第21層膜層的光學厚度為1437nm，第4層膜層、第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層的光學厚度為1163nm。

一種微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡，包括膠合棱鏡基底，在膠合棱鏡基底的表面鍍制有微光、激光透射且中紅外光反射膜，所述微光、激光透射且中紅外光反射膜由23層膜層組成，直接鍍制在膠合棱鏡基底表面的膜層為第1層膜層，在第1層膜層上依次鍍制有第2層膜層～第23層膜層；奇數(shù)膜層的膜料均為氟化鎂，偶數(shù)膜層的膜料均為硫化鋅；第1層膜層和第23層膜層的光學厚度是833nm，第2層膜層和第22層膜層的光學厚度是1196nm，第3層膜層、第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層、第21層膜層的光學厚度為1437nm，第4層膜層、第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層的光學厚度為1163nm。

優(yōu)選的，所述膠合棱鏡基底為45°氟化鈣材質膠合棱鏡基底。

一種微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡的制備方法，包括以下步驟：

（1）預處理膠合棱鏡基底

使用脫脂棉蘸醇醚混合液對膠合棱鏡基底表面進行清潔處理，之后將膠合棱鏡基底夾持在夾具上并放入真空室內(nèi)，抽真空到真空度高于1×10^-2Pa時，升溫加熱基底到140℃～160℃，升溫時間不小于2小時，之后保溫1～2小時，然后啟動離子源并進行離子轟擊，離子轟擊時間為5～10分鐘，關斷離子源；

（2）在預處理過的膠合棱鏡基底表面依次鍍制第1層膜層～第23層膜層

a.?首先鍍制第1層膜層：膜料采用氟化鎂，將氟化鎂膜料放到鉬舟內(nèi)，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.6nm/s～0.7nm/s，膜層厚度由光學膜厚儀控制，第1層膜層的光學厚度為833nm；

b.?鍍制第2層膜層：膜料采用硫化鋅，將硫化鋅膜料放到鉬舟內(nèi)，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.7nm/s～0.8nm/s，光學膜厚儀控制膜層厚度，第2層膜層的光學厚度為1196nm；

c.?鍍制第3層膜層：膜料采用氟化鎂，將氟化鎂膜料放到鉬舟內(nèi)，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.6nm/s～0.7nm/s，膜層厚度由光學膜厚儀控制，第3層膜層的光學厚度為1437nm；

d.?鍍制第4層膜層：膜料采用硫化鋅，將硫化鋅膜料放到鉬舟內(nèi)，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.7nm/s～0.8nm/s，光學膜厚儀控制膜層厚度，第4層膜層的光學厚度為1163nm；