[發(fā)明專利]一種微光、激光透射且中紅外光反射膜及棱鏡、制備方法

有效

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• 申請日: 2011-09-29
• 公開（公告）號: CN102368097A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發(fā)明（設計）人: 劉鳳玉
• 申請（專利權）人: 中國航空工業(yè)集團公司洛陽電光設備研究所
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B5/08;G02B5/04;B32B9/00;C23C14/06;C23C14/24
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 陳浩

1.一種微光、激光透射且中紅外光反射膜，其特征在于，該膜由23層膜層組成，屬部分層優(yōu)化的周期性對稱膜系結構，奇數膜層的膜料均為氟化鎂，偶數膜層的膜料均為硫化鋅，第1層膜層和第23層膜層的光學厚度是833nm，第2層膜層和第22層膜層的光學厚度是1196nm，第3層膜層、第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層、第21層膜層的光學厚度為1437nm，第4層膜層、第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層的光學厚度為1163nm。

2.一種微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡，其特征在于，包括膠合棱鏡基底，在膠合棱鏡基底的表面鍍制有微光、激光透射且中紅外光反射膜，所述微光、激光透射且中紅外光反射膜由23層膜層組成，直接鍍制在膠合棱鏡基底表面的膜層為第1層膜層，在第1層膜層上依次鍍制有第2層膜層～第23層膜層；奇數膜層的膜料均為氟化鎂，偶數膜層的膜料均為硫化鋅；第1層膜層和第23層膜層的光學厚度是833nm，第2層膜層和第22層膜層的光學厚度是1196nm，第3層膜層、第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層、第21層膜層的光學厚度為1437nm，第4層膜層、第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層的光學厚度為1163nm。

3.根據權利要求2所述的微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡，其特征在于，所述膠合棱鏡基底為45°氟化鈣材質膠合棱鏡基底。

4.一種權利要求2或3所述的微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）預處理膠合棱鏡基底

使用脫脂棉蘸醇醚混合液對膠合棱鏡基底表面進行清潔處理，之后將膠合棱鏡基底夾持在夾具上并放入真空室內，抽真空到真空度高于1×10^-2Pa時，升溫加熱基底到140℃～160℃，升溫時間不小于2小時，之后保溫1～2小時，然后啟動離子源并進行離子轟擊，離子轟擊時間為5～10分鐘，關斷離子源；

（2）在預處理過的膠合棱鏡基底表面依次鍍制第1層膜層～第23層膜層

a.?首先鍍制第1層膜層：膜料采用氟化鎂，將氟化鎂膜料放到鉬舟內，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.6nm/s～0.7nm/s，膜層厚度由光學膜厚儀控制，第1層膜層的光學厚度為833nm；

b.?鍍制第2層膜層：膜料采用硫化鋅，將硫化鋅膜料放到鉬舟內，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.7nm/s～0.8nm/s，光學膜厚儀控制膜層厚度，第2層膜層的光學厚度為1196nm；

c.?鍍制第3層膜層：膜料采用氟化鎂，將氟化鎂膜料放到鉬舟內，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為3×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.6nm/s～0.7nm/s，膜層厚度由光學膜厚儀控制，第3層膜層的光學厚度為1437nm；

d.?鍍制第4層膜層：膜料采用硫化鋅，將硫化鋅膜料放到鉬舟內，由電阻蒸發(fā)源進行蒸鍍，蒸鍍時真空度為2×10^-3Pa～1×10^-3Pa，蒸發(fā)速率為0.7nm/s～0.8nm/s，光學膜厚儀控制膜層厚度，第4層膜層的光學厚度為1163nm；

e.?依次鍍制第5層膜層～第21層膜層：重復步驟c，鍍制第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層和第21層膜層，第5層膜層、第7層膜層、第9層膜層、第11層膜層、第13層膜層、第15層膜層、第17層膜層、第19層膜層和第21層膜層的光學厚度均為1437nm；重復步驟d，鍍制第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層，第6層膜層、第8層膜層、第10層膜層、第12層膜層、第14層膜層、第16層膜層、第18層膜層、第20層膜層的光學厚度均為1163nm；

f.?鍍制第22層膜層：重復步驟b，鍍制第22層膜層，第22層膜層的光學厚度為1196nm；

g.?鍍制第23層膜層：重復步驟a，鍍制第23層膜層，第23層膜層的光學厚度為833nm；

（3）膜層鍍制完畢后再過5～8小時，待真空室內溫度低于40℃時放氣，取出，制得微光、激光透射且中紅外光反射的棱鏡。